[实用新型]一种抗静电离型膜

说明书

本实用新型提出一种抗静电离型膜，涉及离型膜技术领域，包括基材层，所述基材层的一侧表面形成电晕层，所述电晕层的表面形成有离型层，所述基材层的另一侧表面形成有抗静电层。本实用新型的抗静电离型膜，结构简单、合理，耐高温的基材层两个表面形成有电晕层和抗静电层，然后再在电晕层表面涂覆形成耐高温的有机硅离型层，硅油残余接着力可以达到90％以上，表面硅含量在0.2G每平方以下，有效降低硅转移的风险，并在在本申请的离型膜模切成型时，抗静电层会吸收释放切割摩擦产生的静电，从而保护表面不会吸附空气中的尘埃，易于加工，有效提升加工精度，保证产品质量。

技术领域

本实用新型涉及离型膜技术领域，尤其是一种抗静电离型膜。

背景技术

目前模切行业所用的PET离型膜(OCA等高端离型膜除外)，在生产过程，离型膜与机械设备的滚轮发生摩擦，从而产生静电，导致离型膜表面吸附空气中的灰尘，即使在万级无尘车间里也会有少量的灰尘会被吸附，最终产品表面会有灰尘、脏污，更有甚者一些精密产品会产生静电，击穿产品。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种抗静电离型膜。

本实用新型具体采用如下技术方案实现：

一种抗静电离型膜，包括基材层，所述基材层的一侧表面形成电晕层，所述电晕层的表面形成有离型层，所述基材层的另一侧表面形成有抗静电层。

作为优选，所述抗静电层由导电液所形成。

作为优选，所述抗静电层通过涂抹或喷涂至所述基材层的表面。

作为优选，所述基材层采用聚对苯二甲酸乙二醇酯材质。

作为优选，所述基材层的厚度50～75μm，透光率为92～95％，雾度为1.5～2％。

作为优选，所述电晕层的厚度为2～4μm，所述电晕层进行电晕处理的功率为12～22KW。

作为优选，所述离型层采用聚二甲基硅氧烷。

作为优选，所述离型层的厚度为2～4μm，离型力为3-100G。

本实用新型提供的抗静电离型膜，其有益效果在于：结构简单、合理，耐高温的基材层两个表面形成有电晕层和抗静电层，然后再在电晕层表面涂覆形成耐高温的有机硅离型层，硅油残余接着力可以达到90％以上，表面硅含量在0.2G每平方以下，有效降低硅转移的风险，并在在本申请的离型膜模切成型时，抗静电层会吸收释放切割摩擦产生的静电，从而保护表面不会吸附空气中的尘埃，易于加工，有效提升加工精度，保证产品质量。

附图说明

图1是本实用新型抗静电离型膜的剖面示意图。

具体实施方式

为进一步说明各实施例，本实用新型提供有附图。这些附图为本实用新型揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理。配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本实用新型的优点。图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。

现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。

如图1所示，本实施例提供的一种抗静电离型膜，包括基材层1，基材层1的一侧面形成电晕层2，电晕层2的表面形成有离型层3，基材层1的另一侧表面形成有抗静电层4。