[实用新型]一种反应杯加载系统

权利要求书

1.一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的加载系统包括用于放置反应杯的漏斗、穿过所述的漏斗底部且能够相对所述的漏斗上下移动的导管，所述的漏斗安装在一机架上，所述的机架上设置有一用于驱动所述的导管上下移动的驱动机构，所述的驱动机构包括固定在机架上的电机、一端部与电机的输出端固定的电机端连杆、一端部与所述的电机端连杆的另一端部枢轴连接的导轨连接杆，所述的导轨连接杆的另一端部枢轴连接有一固定块，所述的导管固定在所述的固定块上，所述的机架上还设有一沿上下方向延伸的滑轨，所述的固定块可滑动的设置在所述的滑轨上。

2.如权利要求1所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的加载系统还包括沿上下方向设置在管道上的第一隔断开关和第二隔断开关，当所述的第一隔断开关或第二隔断开关关闭时，能够阻挡所述的反应杯在所述的管道内滑动，所述的第一隔断开关和第二隔断开关之间仅能容纳一个反应杯。

3.如权利要求1所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的导管包括圆筒状的导管本体及设置在导管本体外壁上的沿导管的长度方向延伸设置的延长边，所述的漏斗的底部设置有一与所述的导管形状相配合的开孔，所述的导管穿过所述的开孔。

4.如权利要求1所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的反应杯包括一反应杯本体、设置在所述的反应杯本体的开口处的沿反应杯本体的周向设置的法兰，所述的加载系统还包括一摆正机构，所述的摆正机构包括一倾斜设置的滑槽，所述的滑槽的上端部位于所述的导管的下端部的下侧，所述的滑槽用于将所述的反应杯的法兰阻挡在所述的滑槽的上侧，位于法兰下侧的反应杯部分掉落至所述的滑槽的下侧。

5.如权利要求4所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的加载系统还包括一衔接在所述的滑槽下端的滑槽导管。

6.如权利要求4所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的滑槽的下端还设置有第三隔断开关和第四隔断开关，当所述的第三隔断开关或第四隔断开关关闭时，能够阻止反应杯在滑槽内滑动，所述的第三隔断开关和第四隔断开关之间仅能够容纳一个反应杯。

7.如权利要求5所述的一种反应杯加载系统，其特征在于，所述的加载系统还包括第一传感器、第二传感器、第三传感器，所述的第一传感器安装在所述的漏斗上，用于测量漏斗内的反应杯，所述的第二传感器安装在所述的滑槽的上端，用于检测所述的导管内的反应杯是否掉入所述的滑槽内；所述的第三传感器安装在所述的滑槽导管的下端，用于检测反应杯是否掉落至目标位置。