[实用新型]光源改善装置有效

专利信息
申请号: 201822119227.4 申请日: 2018-12-17
公开(公告)号: CN209281140U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 侯海雄;李屹 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B7/04;G02B27/09
代理公司: 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 代理人: 苗燕
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 收集透镜 透镜 光源改善 聚焦组件 本实用新型 光斑 匀光 激光 激光技术领域 成像位置 反射激光 方向移动 分光组件 根本原因 光斑效应 激光反射 激光光源 激光能量 透镜反射 像面位置 荧光激发 近聚焦 均匀化 可调节 后移 反射 输出
【权利要求书】:

1.一种光源改善装置,其特征在于,包括激光光源、分光组件、收集透镜组、荧光激发组件、聚焦组件以及匀光组件,所述收集透镜组包括至少一个透镜;

由所述激光光源出射的激光经所述分光组件入射至所述收集透镜组,一部分激光透过所述收集透镜组入射至所述荧光激发组件并激发出荧光,入射至所述荧光激发组件并经所述荧光激发组件反射的激光,与激发出的荧光依次透过所述收集透镜组、所述分光组件以及所述聚焦组件入射至所述匀光组件;另一部分激光经所述收集透镜组中的至少一个透镜反射,依次透过所述分光组件以及所述聚焦组件入射至所述匀光组件;

所述收集透镜组中反射部分激光的至少一个透镜与所述聚焦组件的距离可调节,以使经所述收集透镜组中的至少一个透镜反射的部分激光的成像位置朝靠近或远离所述聚焦组件的方向移动。

2.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述收集透镜组中距离所述聚焦组件最远的透镜与所述聚焦组件的距离可调节。

3.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述收集透镜组包括沿远离所述聚焦组件的方向依次设置的第一收集透镜、第二收集透镜、第三收集透镜以及第四收集透镜,所述第四收集透镜与所述聚焦组件的距离可调节。

4.根据权利要求3所述的光源改善装置,其特征在于,所述第四收集透镜靠近所述聚焦组件一侧表面的曲率大于所述第一收集透镜、所述第二收集透镜以及所述第三收集透镜靠近所述聚焦组件一侧表面的曲率。

5.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述聚焦组件的折射率可调节。

6.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述收集透镜组、所述分光组件以及所述聚焦组件共轴设置。

7.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述分光组件为分光镜。

8.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述荧光激发组件为荧光粉色轮。

9.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述聚焦组件为聚焦透镜。

10.根据权利要求1所述的光源改善装置,其特征在于,所述匀光组件为匀光方棒。

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