[实用新型]一种盖板

说明书

本申请公开了一种盖板。该盖板包括：透明本体、黑色薄膜层及透明加硬层，其中，黑色薄膜层及透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上。本申请盖板能够对外呈现陶瓷黑色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

技术领域

本申请涉及盖板镀膜技术领域，特别是涉及一种盖板。

背景技术

近年来，随着终端，如手机更新迭代的速度加快，其盖板材质依次经历了塑胶、金属、陶瓷、玻璃的发展历程。为了增强手机的卖点和吸引点，手机厂商在手机外观上做了很多的工作，不断的丰富手机外观的颜色。而陶瓷黑色一直是受追捧的幸运儿。

本申请的发明人在长期的研发过程中发现，可以采用以下工艺制备出黑色效果的盖板：1)在菲林片上先用蒸发或者溅射的方式沉积一层透明薄膜，然后在薄膜表面丝印一层黑色的油墨，最后把黑色的菲林片贴合到玻璃盖板上；2)另一种是通过在玻璃表面用蒸发或者溅射的方式沉积一层黑色的薄膜。此方法简单，成本低，有很高的工业应用前景。但在实际应用过程中存在膜基结合力差，玻璃表面不耐刮花，颜色不够黑等问题。

实用新型内容

本申请提供一种盖板，其能够呈现陶瓷黑色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种盖板，该盖板包括：透明本体、黑色薄膜层及透明加硬层，其中，黑色薄膜层及透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上。

其中，黑色薄膜层包括打底层和第一颜色层，打底层设置在透明本体和第一颜色层之间。

其中，第一颜色层包括金属钛、金属铬、金属钨、合金钛铝、合金钛硅、合金铬硅或合金钛铬的碳化物膜层、碳氮化物膜层或碳氮氧化物膜层中的任一种或组合；打底层包括金属铬膜层、金属钛膜层、金属锆膜层、合金钛铝膜层或TiSi膜层；透明加硬层包括氮化硅膜层、氮化铝膜层、氮化硅铝膜层或类金刚石膜层。

其中，打底层的厚度范围为50nm-100nm，第一颜色层的厚度范围为500nm-1200nm，透明加硬层的厚度范围为15nm-150nm。

其中，打底层的厚度范围为60nm-70nm，第一颜色层的厚度范围为800nm-1200nm，透明加硬层的厚度范围为50nm-80nm。

其中，黑色薄膜层进一步包括梯度层，梯度层设置在第一颜色层与透明加硬层之间。

其中，梯度层包括Cr-CrN-CrCN-CrC-CrC：C(铬-氮化铬-碳氮化铬-碳化铬-碳化铬：碳)或者Ti-TiN-TiCN-TiC-TiC：C(钛-氮化钛-碳氮化钛-碳化钛-碳化钛：碳)。

其中，打底层的厚度范围为50nm-100nm，梯度层的厚度范围为500nm-1000nm，第一颜色层的厚度范围为100nm-500nm。

其中，盖板进一步包括透明层，透明层设置在透明本体与黑色薄膜层之间，用于调节黑色薄膜层的色值。

其中，黑色薄膜层及透明加硬层的厚度设置成使得盖板在可见光380-780nm范围内的平均透过率为0，且使得在自然环境下经盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：25≦L≦35，-1≦a≦1，-1≦b≦1。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体、黑色薄膜层及透明加硬层，其中，黑色薄膜层及透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上。通过这种方式，本申请实施例盖板的透明本体上设置有黑色薄膜层，能够使盖板呈现陶瓷黑色色彩，且在黑色薄膜层上设置有透明加硬层，能够提高盖板硬度和耐磨损性能。

附图说明

图1是本申请盖板第一实施例的结构示意图；

图2是图1实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图；