[实用新型]一种硅芯清洗擦拭装置

权利要求书

1.一种硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，包括：送料机构，用于将上料台上的待清洗的硅芯输送至清洗机构；清洗机构，用于对输送来的硅芯进行清洗和擦拭；烘干机构，用于对清洗后的硅芯进行烘干；出料机构，用于将烘干后的硅芯输送至下料台；以及，控制器，其分别与所述送料机构、所述清洗机构、所述烘干机构和所述出料机构电连接，用于控制这些机构动作。

2.根据权利要求1所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述清洗机构包括喷洗装置(3)和硅芯清洗辊(4)；所述喷洗装置(3)包括多个角度可调整的喷头，用于向所述送料机构输送来的硅芯喷射清洗液以冲洗硅芯，以及向所述硅芯清洗辊(4)喷射清洗液以冲洗硅芯清洗辊(4)；所述硅芯清洗辊(4)用于对淋有清洗液的硅芯进行擦拭。

3.根据权利要求2所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述喷洗装置(3)包括前喷洗装置(31)和后喷洗装置(32)，且所述硅芯清洗辊(4)位于所述前喷洗装置(31)和所述后喷洗装置(32)之间。

4.根据权利要求2所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述硅芯清洗辊(4)采用至少两根，且分为上硅芯清洗辊(41)和下硅芯清洗辊(42)，所述上硅芯清洗辊(41)位于所述下硅芯清洗辊(42)的上方；所述上硅芯清洗辊(41)和所述下硅芯清洗辊(42)的转动方向相反。

5.根据权利要求4所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述硅芯采用方硅芯；所述上硅芯清洗辊(41)和所述下硅芯清洗辊(42)均包括沿直线排列的多个刷轮(13)；所述刷轮(13)为中间高两边低的算珠状结构，相邻所述刷轮的顶面之间和底面之间分别形成V型角度，以使得所述上硅芯清洗辊(41)和所述下硅芯清洗辊(42)之间形成多个棱形的硅芯通道(14)，且方硅芯从所述硅芯通道(14)中通过时能够被所述刷轮(13)擦拭。

6.根据权利要求5所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述送料机构包括至少两根送料辊(2)，所述送料辊(2)分为上送料辊(21)和下送料辊(22)，且所述上送料辊(21)位于所述下送料辊(22)上方，所述上送料辊(21)底部设置有沿其长度方向排列的多个倒V型槽，所述下送料辊(22)顶部设置有沿其长度方向排列的多个正V型槽，且所述倒V型槽与所述正V型槽的位置相对，以使得方硅芯能够以倾斜45度的姿势放置在所述倒V型槽与所述正V型槽之间。

7.根据权利要求5所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述出料机构包括至少两根出料辊(6)，所述出料辊(6)分为上出料辊和下出料辊，且所述上出料辊位于所述下出料辊上方，所述上出料辊底部设置有沿其长度方向排列的多个倒V型槽，所述下出料辊顶部设置有沿其长度方向排列的多个正V型槽，且所述倒V型槽与所述正V型槽的位置相对，以使得方硅芯能够以倾斜45度的姿势放置在所述倒V型槽与所述正V型槽之间。

8.根据权利要求7所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述出料机构还包括感应器，所述感应器安装在出料辊(6)前方；所述控制器与所述感应器电连接，用于在所述感应器未感应到硅芯时，控制所述出料辊(6)的上出料辊与下出料辊彼此分开，以及在所述感应器感应到硅芯时，控制所述出料辊(6)的上出料辊与下出料辊延迟预设时间后彼此接近以将硅芯卡在所述倒V型槽与所述正V型槽之间。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述送料机构包括用于支撑硅芯的送料机构支撑架，所述出料机构包括用于支撑硅芯的出料机构支撑架，且所述送料机构支撑架与所述出料机构支撑架上均外衬有PU垫。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述控制器采用PLC控制器。

11.根据权利要求1-8中任一项所述的硅芯清洗擦拭装置，其特征在于，所述烘干机构包括风机(7)和与之连接的匀流结构(5)；所述风机(7)用于输出热风；所述匀流结构(5)的入口与所述风机(7)的出风口连接，所述匀流结构(5)的出口长度与多行排列的硅芯总宽度相对应，用于将所述风机(7)输出的热风均匀分布后再吹向硅芯。