[实用新型]可调变进光量光学成像系统及成像系统有效

专利信息
申请号: 201822131862.4 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN210075363U 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 张永明;赖建勋;刘燿维 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/232
代理公司: 44237 深圳中一专利商标事务所 代理人: 郭雨桐
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学影像传感器 调变组件 通光 镜头组件 微控制器 光学成像系统 电性连接 光线穿透 光线聚焦 控制信号 行进路径 中心法线 穿透率 进光量 感测 光轴 可调 遮断 成像 行进 中断 拍摄
【权利要求书】:

1.一种可调变进光量光学成像系统,其特征在于,其包括:

至少一个光学影像传感器,位于光线的行进方向;

至少一个镜头组件,位于所述光线的行进方向及各所述光学影像传感器的前方,且所述镜头组件的光轴和所述光学影像传感器的感测面的中心法线重叠,并使所述光线聚焦于所述光学影像传感器;

至少一个通光调变组件,位于所述光线的行进方向,各所述通光调变组件根据控制信号改变其穿透率,以遮断所述光线的行进路径或使所述光线穿透各所述通光调变组件;以及

微控制器,电性连接各所述通光调变组件。

2.如权利要求1所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件包括第一基板、第一透明导电层、辅助电极层、电解质层、电致变色层、第二透明导电层以及第二基板,所述第一透明导电层设置于所述第一基板上,所述辅助电极层设置于所述第一透明导电层上,所述电解质层设置于所述辅助电极层上,所述电致变色层设置于所述电解质层上,所述第二透明导电层设置于所述电致变色层上,所述第二基板设置于所述第二透明导电层上。

3.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件的摆放位置垂直于所述光线的行进方向。

4.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件之前,且所述第一基板或所述第二基板位于邻近所述镜头组件的一侧。

5.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件和各所述光学影像传感器之间,且所述第一基板或所述第二基板位于邻近所述镜头组件的一侧。

6.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件的相邻的两个透镜之间。

7.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件还包括密封结构,所述密封结构设置于所述第一基板和所述第二基板之间,并围绕所述辅助电极层、所述电解质层以及所述电致变色层。

8.如权利要求2所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,所述电致变色层的材料包括自由过渡金属氧化物、价间嵌入化合物以及有机化合物所组成的群组中的至少其一。

9.如权利要求1所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件包括第一基板、第一透明导电层、遮光层、第二透明导电层以及第二基板,所述第一透明导电层设置于所述第一基板上,所述遮光层设置于所述第一透明导电层上,所述第二透明导电层设置于所述遮光层上,所述第二基板设置于所述第二透明导电层上。

10.如权利要求9所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件的摆放位置垂直于所述光线的行进方向。

11.如权利要求9所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件之前,且所述第一基板或所述第二基板位于邻近所述镜头组件的一侧。

12.如权利要求9所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件和各所述光学影像传感器之间,且所述第一基板或所述第二基板位于邻近所述镜头组件的一侧。

13.如权利要求9所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件位于各所述镜头组件的相邻的两个透镜之间。

14.如权利要求9所述的可调变进光量光学成像系统,其特征在于,各所述通光调变组件还包括密封结构,所述密封结构设置于所述第一基板和所述第二基板之间,并围绕所述遮光层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进光电科技股份有限公司,未经先进光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201822131862.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top