[实用新型]一种高强度屏下指纹识别光电保护膜

权利要求书

1.一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述光电保护膜由上而下依次设置有特殊材质树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、PC材质基膜层、第二硅胶层及特殊材质树脂离型膜层，所述PC材质基膜层为低相位差薄膜，所述低相位差薄膜的Re和Rth两个方向的相位差小于30nm。

2.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述PC材质基膜层的上、下两个表面至少有一面涂布有防腐蚀易接着层。

3.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述特殊材质树脂保护膜层和所述特殊材质树脂离型膜层的厚度均为25-360μm，材料均采用PC材质、具备在150摄氏度环境下热收缩率小于0.3％的通用光学塑料薄膜中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第一硅胶层的厚度为4-30μm，剥离力为1-30g，撕离力为0.5-10g，透光率为87％-96％，雾度范围为0.2％-3.5％。

5.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述硬化层的厚度为1-10μm，硬度为1H-9H，且所述硬化层的加硬液为溶剂型和水性UV加硬液中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述PC材质基层膜的厚度为25-360μm，所述PC材质基膜层为单层PC材质基膜、双层PC材质基膜中的一种。

7.根据权利要求1所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第二硅胶层的厚度为8-80μm，撕离力大于15g，剥离力为2-800g，透光率为88％-96％，雾度为0.2％-2.5％。

8.根据权利要求2所述的一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述防腐蚀易接着层的材料为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种。