[实用新型]一种高强度屏下指纹识别光电保护膜有效
| 申请号： | 201822136489.1 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN210506187U | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 金国华 | 申请（专利权）人： | 浙江欣麟新材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/29 | 分类号： | C09J7/29 |
| 代理公司： | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人： | 陈栋 |
| 地址： | 江苏省苏州市兰*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 强度 指纹识别 光电 保护膜 | ||
1.一种高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层为双层的使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸或有机硅涂层，双层的所述使用基膜之间设置有黏胶层，所述黏胶层为OCA压敏胶、丙烯酸压敏胶、聚氨酯胶或聚酯胶，所述黏胶层的粘合力为500-5000g。
2.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，离型底膜层的厚度为36-125μm，安装硅胶层的厚度为10-100μm，使用基膜层的厚度为50-250μm，HC层的厚度为1-10μm，保护硅胶层的厚度为5-25μm，保护基膜层的厚度为36-125μm。
3.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述离型底膜层为氟素离型膜，所述使用基膜层的基膜材质为PC、TPU、PMMA、TAC、PP、SRF或COP，所述保护基膜层的材质为PET保护基膜。
4.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述HC层的硬度为1-9H,水滴角95-120°，表面摩擦系数为小于0.1，表面摩擦电压小于400V，表面阻抗为109-110Ω，附着力为大于5B。
5.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述HC层的硬度为2-3H,水滴角102-110°，表面摩擦系数为小于0.05。
6.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述安装硅胶的剥离力为1-1500g。
7.根据权利要求1所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述防腐蚀易接着层和黏胶层层的厚度之和占所述使用基膜层的5％-15％，其中黏胶层层的厚度占，所述防腐蚀易接着层和黏胶层层的厚度之和的30％-40％。
8.根据权利要求1-7任一所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述使用PC基膜层的材质为PC。
9.根据权利要求8所述高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述使用PC基膜层的上下两面均设置有防腐蚀易接着层。
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