[实用新型]一种高反射率辐射制冷膜

说明书

本实用新型公开了一种高反射率辐射制冷膜，包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层，反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层，介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层，高折射率层与低折射率层交替地层叠设置。本实用新型的高反射率辐射制冷膜在可见光以及红外波段具有高反射率，同时在8～13μm波段具有高发射率，此外，本实用新型的高反射率辐射制冷膜的稳定性好，使用寿命长。

技术领域

本实用新型涉及辐射制冷技术领域，尤其涉及一种高反射率辐射制冷膜。

背景技术

太阳光的能量分布中，可见光(400～700nm)的能量约占43％，近红外光(700～2500nm)的能量约占52％。辐射制冷膜的降温效果主要由反射层对太阳光的可见光波段和近红外光波段的反射率以及辐射制冷层在“大气窗口”波段的发射率决定，目前反射型的辐射制冷薄膜反射率能达到的上限很有限，基本是靠金属层来实现。

如公告号为CN108641155A的专利中，公开了一种被动辐射降温薄膜及其制备方法。该薄膜由辐射基膜层和铝膜层组成，铝膜层在太阳红外辐射波段和大气辐射波段均有较高的反射率，辐射基膜层中的SiO₂颗粒在大气窗口8～13μm处有较高的辐射率。

但是，作为反射层的金属容易被氧化，导致反射层性能不稳定，使用寿命短。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种高反射率辐射制冷膜，其反射率高，性能稳定。

本实用新型的目的采用如下技术方案实现：

一种高反射率辐射制冷膜，包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层，所述反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层，所述介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层，所述高折射率层与所述低折射率层交替地层叠设置。

进一步地，所述高折射率层选自以下一层或多层：Nb₂O₅层、Ta₂O₅层、TiO₂层、Al₂O₃层、ZnS层、ZrO₂层、HfO₂层、Y₂O₃层，所述低折射率层选自以下一层或多层：SiO₂层、MgF₂层。

进一步地，所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层为Al₂O₃层，所述金属层选自以下一层或多层：Ag层、Al层，所述介质膜层的一所述低折射率层与所述第二金属氧化物层接触。

进一步地，所述辐射制冷层包括制冷层以及设置在所述制冷层至少一侧的树脂层，所述制冷层包括树脂以及分散在所述树脂中的辐射制冷颗粒。

进一步地，所述辐射制冷颗粒选自以下一种或多种：SiO₂、SiC、TiO₂、CaCO₃、BaSO₄，所述辐射制冷颗粒的粒径为1～30μm。

进一步地，所述有机封装层为胶粘剂或者结构胶或者压敏胶。

进一步地，所述辐射制冷层的厚度为30～200μm，所述反射层的厚度为20～300nm，所述反射层中的所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层的厚度各占所述反射层厚度的20～30％，所述金属层的厚度占所述反射层厚度的20～35％，所述介质膜层占所述反射层厚度的5～40％，所述有机封装层的厚度为10～200μm。

进一步地，所述高反射率辐射制冷膜还包括设置在所述辐射制冷层一侧的耐候疏水层，所述耐候疏水层与所述反射层分别位于所述辐射制冷层的两侧。