[实用新型]一种电弧离子镀膜装置有效
| 申请号： | 201822141572.8 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN209428589U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 冯森;蹤雪梅;何冰 | 申请（专利权）人： | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 刘艳艳;董建林 |
| 地址： | 221004 江苏省徐州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 电弧离子源 电弧离子镀膜装置 本实用新型 光洁度 弹性体制品 镀膜均匀性 霍尔离子源 真空室侧壁 低温条件 角度安装 脉冲放电 涂层表面 产业化 均匀性 离子源 真空室 靶材 沉积 激发 保证 生产 | ||
1.一种电弧离子镀膜装置，其特征在于，包括真空室、霍尔离子源、电弧离子源；
所述真空室，作为工件镀膜的操作空间，并提供真空体系；
所述霍尔离子源设置有霍尔离子源补偿器，用于发射热电子强化离子，对工件表面进行清洗活化，去除工件表面的杂质；
所述电弧离子源包括两个或多个电弧离子源；
所述电弧离子源采用脉冲电源供电，产生脉冲电弧激发靶材，用于在真空室内产生靶材离子，均匀的沉积在工件的表面。
2.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述电弧离子源与真空室侧壁倾斜成一定角度安装。
3.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述电弧离子源的离子喷射的角度可调。
4.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述脉冲电源的电压、电流可调，频率、占空比可调。
5.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，还包括工件转台，所述工件转台位于真空室中，用于放置工件。
6.根据权利要求5所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述工件转台为二级行星齿轮架，采用电机驱动，通过齿轮系统实现二级行星齿轮架转动，所述二级行星齿轮架上设置有多个工装位。
7.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述霍尔离子源位于真空室的侧壁，所述离子源补偿器位于霍尔离子源的上方。
8.根据权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，还包括抽真空系统，所述真空室与抽真空系统相连通。
9.根据权利要求8所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，所述抽真空系统为二级真空组，包括机械旋片泵和涡轮分子泵。
10.根据权利要求1-9任一项所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于，还包括循环冷却系统，所述循环冷却系统用于通过水循环带走电弧离子源放电及霍尔离子轰击产生的热量。
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