[实用新型]一种用于镀膜后的等离子装置

权利要求书

1.一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，它包括：清洗机(1)以及等离子装置(2)，所述清洗机(1)上设有清洗箱(3)以及料板(4)，所述料板(4)自清洗箱(3)的一端穿过并延伸至该清洗箱(3)的另一端外构成上料口(4.1)以及出料口(4.2)，所述等离子装置位于所述料板(4)的上料口(4.1)处，所述料板(4)下方安装有滚轮(5)，所述清洗箱(3)位于所述料板(4)的上方安装有用以对通过其下方的产品进行清洗的两组滚刷(6)以及风刀(7)。

2.根据权利要求1所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述清洗机(1)以及所述等离子装置(2)通过机架(8)连接，所述等离子装置(2)两侧设有与所述机架(8)一体成型设置的压块(8.1)。

3.根据权利要求2所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述机架(8)还具有与其一体成型用以支撑所述清洗机(1)及等离子装置(2)的支撑脚(8.2)。

4.根据权利要求1所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述等离子装置(2)包括罩壳(2.1)以及喷管(2.2)以及等离子发生器(2.3)，所述罩壳(2.1)靠近所述上料口(4.1)的端面向内凹陷构成可供样料通过的通槽(2.4)，所述喷管(2.2)自所述罩壳(2.1)的上端面至通槽(2.4)的槽顶穿过并与所述上料口(4.1)接触。

5.根据权利要求4所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述罩壳(2.1)上开设有横纵交错设置的导向槽(2.6)，所述喷管(2.2)可沿所述导向槽(2.6)活动。

6.根据权利要求5所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述喷管(2.2)位于所述上料口的一端中插设有喷覆头(2.5)，所述喷覆头(2.5)的一端延伸至所述罩壳(2.1)内并与所述等离子发生器(2.3)连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述滚刷(6)包括第一滚刷(6.1)和第二滚刷(6.2)，所述第一滚刷(6.1)的上方安装有洗剂盒(9)，所述洗剂盒(9)上连接有出液管(9.1)，所述出液管(9.1)背离所述洗剂盒(9)的一端连接有喷头(9.2)。

8.根据权利要求7所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述第二滚刷(6.2)处的两侧壁上插装有通水管(10)，所述通水管(10)的一端延伸至所述清洗箱(3)外并与一供水机连接，所述通水管(10)的位于所述清洗箱(3)内的一端沿所述清洗箱(3)顶部分布且位于所述第二滚刷(6.2)上端。

9.根据权利要求7所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述第一滚刷(6.1)与第二滚刷(6.2)间的侧壁上开设有上下交错的风口(3.1)，所述风口(3.1)均与风机连接。

10.根据权利要求1所述的一种用于镀膜后的等离子装置，其特征在于，所述清洗箱(3)位于所述出料口(4.2)的一端与一除尘箱(11)连接，所述除尘箱(11)内安装有静电去除头。