[实用新型]一种防止有机物污染产线的监测装置及半导体生产设备有效
申请号: | 201822151845.7 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN209591985U | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 柳建军;陈凡 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/66;G01N21/3563 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信号发生器 有机物污染 半导体生产设备 本实用新型 信号检测器 监测装置 产线 节约生产成本 产品报废 待检测物 有机物 监测 | ||
1.一种防止有机物污染产线的监测装置,其特征在于,包括一信号发生器、一信号检测器,所述信号发生器设置于一待检测物上方,所述信号检测器设置于对应所述信号发生器的位置;
所述信号检测器与一控制器连接,所述控制器与一动作单元连接。
2.根据权利要求1所述的防止有机物污染产线的监测装置,其特征在于,所述信号发生器对待检测物发射信号,所述信号检测器接收所述待检测物反射的信号。
3.根据权利要求1所述的防止有机物污染产线的监测装置,其特征在于,所述信号发生器为红外线信号发生器,所述信号检测器为红外线信号检测器,所述红外线信号发生器发射红外光对所述待检测物进行红外扫描,所述红外线信号检测器接收所述待检测物反射的信号。
4.根据权利要求1所述的防止有机物污染产线的监测装置,其特征在于,包括一承载面,所述待检测物为晶圆,所述晶圆检测时被放置于所述承载面上。
5.根据权利要求1所述的防止有机物污染产线的监测装置,其特征在于,所述动作单元为机械手臂。
6.一种半导体生产设备,其特征在于,包括一防止有机物污染产线的监测装置,该防止有机物污染产线的监测装置包括一信号发生器、一信号检测器,所述信号发生器设置于一待检测物上方,所述信号检测器对应所述信号发生器设置。
7.根据权利要求6所述的半导体生产设备,其特征在于,进一步包括承载面,所述待检测物为晶圆,所述晶圆检测时被放置于所述承载面上。
8.根据权利要求7所述的半导体生产设备,其特征在于,进一步包括晶圆锁定装置和/或晶圆暂存装置,所述承载面设置于所述晶圆锁定装置和/或晶圆暂存装置。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的半导体生产设备,其特征在于,进一步包括冷却装置,所述冷却装置包括一冷却腔体,所述待检测物为所述冷却腔体。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造