[实用新型]一种改善等离子体启辉及稳定性的装置有效
| 申请号： | 201822167355.6 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN209982804U | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 李雪冬;刘小波;胡冬冬;车东晨;李娜;徐康宁;陈璐;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/67 |
| 代理公司： | 32274 南京申云知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 邱兴天 |
| 地址： | 221300 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电感耦合线圈 内圈 反应腔室 等离子体启辉 激励射频电源 本实用新型 接地 工艺重复性 中等离子体 工艺窗口 工艺过程 晶圆表面 静电卡盘 可调电容 偏压射频 电压差 高电压 介质窗 沉积 刻蚀 串联 电源 | ||
1.一种改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：包括激励射频电源、电感耦合线圈、反应腔室、介质窗、静电卡盘和偏压射频电源，所述电感耦合线圈设置在介质窗上方，所述介质窗设置在反应腔室上方，所述静电卡盘设置在反应腔室并与偏压射频电源相连后接地，所述电感耦合线圈的一端口与激励射频电源连接，另一端口串联有可调电容，所述电感耦合线圈外圈端口到反应腔室接地端的距离小于电感耦合线圈内圈端口到反应腔室接地端的距离，且电感耦合线圈外圈端口的电压高于电感耦合线圈内圈端口的电压。
2.根据权利要求1所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：所述电感耦合线圈的内端与激励射频电源连接，外端与可调电容连接；或者所述感耦合线圈的外端与激励射频电源连接，内端与可调电容连接。
3.根据权利要求1所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：所述电感耦合线圈为平面结构或者立体结构。
4.根据权利要求3所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：所述平面结构为平面螺旋线形或者圆形弧线，所述平面螺旋线为阿基米德螺旋线、渐开线或者涡状线。
5.根据权利要求3所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：所述立体结构为立体螺旋形状，且沿上升方向立体螺旋线的直径相同或直径渐小或直径渐大。
6.根据权利要求1或2所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：所述电感耦合线圈为单根线圈，或者所述电感耦合线圈为两个或两个以上线圈并联而成。
7.根据权利要求6所述的改善等离子体启辉及稳定性的装置，其特征在于：两个或两个以上线圈并联后，再与可调电容串联；或者两个或两个以上线圈并联，且每个并联支路里均串联有一个可调电容。
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