[实用新型]基于光学劈尖干涉的纳米分辨率位移测量装置有效
| 申请号： | 201822174002.9 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN209559128U | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 冀聪;王肖隆;王子轩;王晶;杨钢;陈春霖;吴彬;程冰;林强 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;黄美娟 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 劈尖 光路 分光装置 干涉装置 输出激光 光学成像系统 位移测量装置 纳米分辨率 位移平台 激光器 分光面 玻璃 数据处理系统 输出端连接 被测物体 测量装置 待测物体 干涉条纹 干涉图像 光路对准 激光干涉 稳压电源 相干光源 上表面 位移量 干涉 传送 对准 激光 垂直 图像 | ||
1.基于光学劈尖干涉的纳米分辨率位移测量装置，其特征在于：包括为测量装置提供稳定的单色相干光源的激光器(1)，激光器(1)的输出激光以45度角对准分光装置(4)的分光面，所述的输出激光经所述的分光装置(4)分成位于分光面两侧的第一光路(41)和第二光路(42)，第一光路(41)与第二光路(42)均垂直于所述的输出激光，第一光路(41)对准劈尖干涉装置的玻璃劈尖；
劈尖干涉装置(2)的玻璃劈尖连接被测物体(3)，待测物体(3)放置在一个通过电压的变化来控制位移量的变化的位移平台上，位移平台连接稳压电源；
第一光路(41)的激光通过劈尖干涉装置在玻璃劈尖的上表面会形成干涉条纹，接着将干涉图像通过分光装置(4)、第二光路(42)传送至光学成像系统(5)从而获得完整的激光干涉图像；光学成像系统(5)的输出端连接数据处理系统(6)；数据处理系统(6)根据微位移测量模型计算被侧物体的微量位移，所述的微位移测量模型具体是：
其中，Iinter为干涉强度，IR1为反射光的光强，λ为入射光波长，n为介质折射率，dk为第k级干涉条纹对应位置介质上下界面之间的厚度，L为玻璃劈尖长度，△l为介质上表面第k级干涉条纹将向前移动的距离；通过测得干涉强度Iinter、反射光光强IR1与介质上表面第k级干涉条纹将向前移动的距离，确定介质的折射率n从而确定了微位移测量模型，便可通过干涉条纹的宽度由几何关系计算出，从而确定微位移量。
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