[实用新型]带有防护装置的反应腔

权利要求书

1.一种带有防护装置的反应腔，包括：腔体和设置在所述腔体内的载板、喷淋装置及辅助装置；

所述载板用于承载晶片；

所述喷淋装置位于所述载板的上方；

所述辅助装置位于载板下方，

其特征在于，

所述腔体内还设置有防护装置，所述防护装置用于将所述载板的上方区域和下方区域分隔；和/或用于改变腔体内气体通道中气流的流动方向，以使气流经过薄膜生长区之外的区域，并限制薄膜生长区的气体与薄膜生长区之外的气体的交换。

2.根据权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述防护装置为环状板，与所述载板平行、具有间隙地设置在所述腔体内，且所述环状板将所述载板的上方区域与下方区域隔开。

3.根据权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述防护装置包括横板和竖板；

所述横板、竖板均为环状，横板与所述载板平行，所述横板的内环与竖板相固定，所述横板与竖板相垂直且所述竖板分布于横板的两侧。

4.根据权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述防护装置包括横板和竖板；

所述横板、竖板均为环状，所述横板与所述载板平行且具有间隙，所述竖板与横板相垂直且所述竖板固定在所述横板朝向所述载板的一侧面的中部。

5.根据权利要求2-4任一项所述的反应腔，其特征在于，还包括用于喷淋保护气体的第一喷淋管道，所述第一喷淋管道与腔体上的保护气体进气口相通，且所述第一喷淋管道位于所述喷淋装置的外侧上方。

6.根据权利要求5所述的反应腔，其特征在于，所述辅助装置包括加热装置及冷却装置，所述加热装置位于所述载板下方；所述冷却装置位于所述加热装置下方；还包括用于喷淋保护气体的第二喷淋管道，所述第二喷淋管道与所述保护气体进气口相通，且所述第二喷淋管道均匀分布在所述冷却装置的下方。

7.根据权利要求6所述的反应腔，其特征在于，所述喷淋装置上设置有第一通道，所述第一通道与腔体上的排气口相通。

8.根据权利要求7所述的反应腔，其特征在于，所述第一通道设置在所述喷淋装置的外端。

9.根据权利要求7所述的反应腔，其特征在于，所述冷却装置上设置有多个保护气体通道，多个保护气体通道均匀分布在所述冷却装置上。

10.根据权利要求6所述的反应腔，其特征在于，还包括衬板，所述衬板为半环状板，固定在所述腔体的底壁上，且围绕所述冷却装置。

11.根据权利要求10所述的反应腔，其特征在于，还包括内衬板，设置在所述衬板的内侧，且高度低于所述衬板；

所述内衬板包括本体和多个连接部，所述本体为半环状板，各所述连接部均为平板，所述连接部相互间隔地设置在所述本体的底部，使安装后的内衬板与所述腔体的底壁之间留有间隙。

12.根据权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述腔体外部的工艺气体进气通道和保护气体进气通道中均设置有进气阀；

所述腔体外部的排气通道中设置有排气阀；

所述腔体外部的排气通道还与真空泵相连。