[实用新型]一种间歇式的烧成窑炉

说明书

本实用新型提供了一种间歇式的烧成窑炉。在该技术方案中，以炉壁围成一封闭空间，在该封闭空间中，将待烧成的胚体码放成垛，并保持该垛体与炉壁间留有缝隙且各胚体之间亦留有缝隙；在此基础上，在垛体中竖直的内置若干支路管，用于向窑炉内鼓入气体，气体经主干管进入，向下进入若干支路管，而后到达窑炉底部的凹槽，再向上经胚体之间的缝隙均匀弥散至胚体周围，从而达到良好的气体分布效果；最后，气体流经空腔并从排气口处排出，从而完成整个循环过程。应用本实用新型，不仅可将工艺气体有效鼓入窑炉内，而且可使其在胚体周围良好分布，有利于烧成过程的气体保护或主动增氧。

技术领域

本实用新型涉及烧成设备技术领域，具体涉及一种间歇式的烧成窑炉。

背景技术

烧成是将硅酸盐制品在一定条件下进行热处理，使之发生一系列物理化学变化，形成预期的矿物组成和显微结构，从而达到固定外形并获得所要求性能的工序。烧成是生产硅酸盐制品的主要工序之一。烧成过程中坯体往往经历着脱水，有机质挥发、燃烧、碳酸盐分解、矿物组成的形成、致密化和显微结构的形成等过程，使制品具有充分机械强度和其他需要性能。一般在各种窑炉中进行，须注意火焰的气氛性质(还原性的或氧化性的)和烧成的温度范围等。

现有技术中间歇式的窑炉结构较为粗放，仅能提供自然鼓风作用，在部分烧成工艺中，可能需要采取氮气保护或增加氧气供给，此时常规窑炉难以到达工艺要求，即使人为的增设充气组件，受限于窑炉自身结构的缺陷，外来气体也难以在胚体外周形成充分的形成充分的弥漫。

发明内容

本实用新型旨在针对现有技术的技术缺陷，提供一种间歇式的烧成窑炉，以解决现有技术的窑炉中，气体分布结构不合理的技术问题。

为实现以上技术目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种间歇式的烧成窑炉，包括炉壁，坯体，气体通道，缝隙，凹槽，支路管，主干管，空腔，排气口，其中炉壁围成一内腔，在所述内腔中码放有若干坯体，所述若干坯体与炉壁之间留有气体通道，在若干坯体之间留有缝隙，在所述内腔的底部开设有凹槽，所述凹槽位于若干坯体的下方，支路管位于若干坯体中，所述支路管的下端延伸至所述凹槽，所述支路管的上端与主干管的一端连通，所述主干管的另一端延伸至炉壁的外部，在若干坯体与炉壁之间具有一空腔，所述空腔的体积为所述内腔体积的1/4，在炉壁上开设有排气口，所述排气口与空腔相连通。

作为优选，所述支路管与所述内腔的底面相垂直。

作为优选，所述支路管的数量为3个。

作为优选，炉壁的任一横截面均呈圆环形状。

作为优选，炉壁具有一圆弧形状的顶面。

本实用新型提供了一种间歇式的烧成窑炉。在该技术方案中，以炉壁围成一封闭空间，在该封闭空间中，将待烧成的胚体码放成垛，并保持该垛体与炉壁间留有缝隙且各胚体之间亦留有缝隙；在此基础上，在垛体中竖直的内置若干支路管，用于向窑炉内鼓入气体，气体经主干管进入，向下进入若干支路管，而后到达窑炉底部的凹槽，再向上经胚体之间的缝隙均匀弥散至胚体周围，从而达到良好的气体分布效果；最后，气体流经空腔并从排气口处排出，从而完成整个循环过程。应用本实用新型，不仅可将工艺气体有效鼓入窑炉内，而且可使其在胚体周围良好分布，有利于烧成过程的气体保护或主动增氧。

附图说明

图1是本实用新型的纵剖面结构示意图；

图2是本实用新型的横剖面结构示意图；

图中：

1、炉壁 2、坯体 3、气体通道 4、缝隙

5、凹槽 6、支路管 7、主干管 8、空腔

9、排气口。