[实用新型]一种纳米镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种纳米镀膜装置，包括主体板，所述主体板的上表面从右到左依次固定连接有盛料箱、分子泵、真空泵和镀膜箱，盛料箱的底端设有放置槽，放置槽内设有电加热管，盛料箱设有滑动槽，滑动槽位于放置槽的上侧，滑动槽内滑动连接有填料板，填料板上设有加热孔，填料板的前侧固定连接有密封板，所述盛料箱上设有四个出料口，该纳米镀膜装置，通过低温泵对加热升华后的镀膜材料进行降温，避免在镀膜时镀膜材料温度过高发生膜层结构变化或者镀膜材料产生分解，影响镀膜质量，通过残料收集箱对产品镀膜时滴落的镀膜材料进行收集，避免镀膜材料四处滴落，影响工作人员后期的清理。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种纳米镀膜装置。

背景技术

目前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光经过镜片的能量损耗。又如于某些滤光组件表面镀上一层滤光膜制成滤光片，其可过滤掉一预定波段的光。一般地，镀膜方法主要包括蒸镀法、离子镀膜法、射频磁控溅镀、化学气相沉积法等。传统的蒸镀方法是将待镀膜基材放置于伞形基板上，然后使气态或离子态的膜料沉积于待镀膜基材上表面形成薄膜。然而，加热后的镀膜材料具有高温，在镀膜过程中镀膜材料温度过高的会出现膜层结构变化或者镀膜材料产生分解，影响镀膜质量。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种纳米镀膜装置，有效的降低镀膜材料的温度，避免镀膜材料发生膜层结构变化或者镀膜材料产生分解，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种纳米镀膜装置，包括主体板，所述主体板的上表面从右到左依次固定连接有盛料箱、分子泵、真空泵和镀膜箱，盛料箱的底端设有放置槽，放置槽内设有电加热管，盛料箱设有滑动槽，滑动槽位于放置槽的上侧，滑动槽内滑动连接有填料板，填料板上设有加热孔，填料板的前侧固定连接有密封板，所述盛料箱上设有四个出料口，盛料箱的出料口通过吸气管与合流管的进料口连接，合流管的出料口通过第一连接管与分子泵的进料口连接，所述主体板的上表面固定连接有低温泵，低温泵位于真空泵的后侧，低温泵的进料口通过第二连接管与分子泵的出料口连接，真空泵的进气口通过第四连接管与镀膜箱的出气口连接，所述镀膜箱的上侧设有安置槽，安置槽内设有喷洒管，喷洒管上设有等距出料口，喷洒管的出料口与喷头的进料口连接，所述喷洒管的进料口通过分流管与第三连接管的出料口连接，第三连接管的进料口与低温泵的出料口连接，所述镀膜箱内设有滑槽，滑槽内滑动连接有盛放板，盛放板上设有排料口，镀膜箱内设有残料收集箱，残料收集箱的位置与盛放板的位置相对应，所述镀膜箱前端的上下两侧分别通过转动轴与上挡板和下挡板，上挡板的位置与下挡板的位置相对应，所述主体板的上表面固定连接有电源开关组，电源开关组的输入端连接外部电源的输出端，电源开关组的输出端电连接真空泵、分子泵、低温泵和电加热管的输入端。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述密封板的前侧固定连接有握把，握把上设有橡胶套，所述密封板的后侧固定连接有密封条，盛料箱的进物口上设有密封槽，密封槽的位置与密封条的位置相对应且接触连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述上挡板上设有观察槽，观察槽内设有透明玻璃，所述上挡板的上表面设有扶手槽，扶手槽位于观察槽的前侧。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述主体板的下表面四角分别固定连接有垫块。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述上挡板的前侧设有两个连接槽，连接槽内固定连接有弹簧和伸缩杆，弹簧的位置与伸缩杆的位置相对应且套接，弹簧和伸缩杆的伸缩端与滑动凸起固定连接，所述下挡板的前侧设有两个卡槽，卡槽的位置与滑动凸起的位置相对应且卡接。