[实用新型]硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片清洗装置包括清洗槽（100），所述清洗槽（100）包括浸泡槽（110）和喷淋槽（120），所述浸泡槽（110）和喷淋槽（120）之间隔有隔液板（130）；所述清洗槽（100）中设有用于传送硅片的输送辊轮组（200），所述输送辊轮组（200）依次穿过浸泡槽（110）和喷淋槽（120），所述输送辊轮组（200）包括上辊轮（210）和下辊轮（220），所述输送辊轮组（200）的上方和下方分别设有上喷头（310）和下喷头（320）。

2.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，位于所述浸泡槽（110）中的输送辊轮组（200）的上方设有用于喷射清洗液的上喷头（310）；位于所述喷淋槽（120）中的输送辊轮组（200）的上方和下方分别设有用于喷射清洗液的上喷头（310）和下喷头（320）。

3.如权利要求1或2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述喷淋槽（120）包括分别位于所述浸泡槽（110）两侧的第一喷淋槽（121）和第二喷淋槽（122），所述第一喷淋槽（121）与浸泡槽（110）之间设有第一隔板（131），浸泡槽（110）与第二喷淋槽（122）之间设有第二隔板（132）；所述第一隔板（131）和第二隔板（132）的顶部分别开设有溢流口（140），所述第一喷淋槽（121）和第二喷淋槽（122）的中部分别开设有第一出流口（151）和第二出流口（152）。

4.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述浸泡槽（110）中的液体平面高于所述喷淋槽（120）中的液体平面。

5.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，位于所述浸泡槽（110）中的输送辊轮组（200）为向所述清洗槽（100）槽底凹陷的形状。

6.如权利要求5所述的硅片清洗装置，其特征在于，浸泡槽（110）中的液体平面高于输送辊轮组（200）上的硅片所在的平面。

7.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，位于所述喷淋槽（120）中的输送辊轮组（200）处于同一水平面上。