[实用新型]光束成像装置有效
| 申请号： | 201822196530.4 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN209103032U | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 田立飞;刘敬伟 | 申请（专利权）人： | 中科天芯科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李博洋 |
| 地址： | 100009 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图形层 包层 光束成像 电极层 本实用新型 两侧设置 直接设置 制备过程 上表面 | ||
1.一种光束成像装置，其特征在于，包括：
图形层(10)、设置于所述图形层(10)两侧的包层(20)、以及直接接触设置于所述图形层(10)一侧的包层(20)表面上的电极层(30)。
2.根据权利要求1所述的光束成像装置，其特征在于，还包括：
衬底层(40)，设置在所述图形层(10)另一侧的包层(20)表面上。
3.根据权利要求2所述的光束成像装置，其特征在于，所述图形层(10)的折射率大于所述包层(20)的折射率。
4.根据权利要求1所述的光束成像装置，其特征在于，所述电极层(30)在所述图形层(10)上的投影至少覆盖所述图形层(10)。
5.根据权利要求1所述的光束成像装置，其特征在于，所述图形层(10)包括多个平行且间隔设置的图形单元。
6.根据权利要求5所述的光束成像装置，其特征在于，所述图形单元的形状包括长方体、圆柱、圆锥或者圆环。
7.根据权利要求5所述的光束成像装置，其特征在于，所述图形单元的形状为长方体，所述长方体的厚度为20nm－5000nm，宽度为20nm－5000nm。
8.根据权利要求5所述的光束成像装置，其特征在于，相邻所述图形单元的间距为20nm－5000nm。
9.根据权利要求1－8中任一所述的光束成像装置，其特征在于，所述图形层(10)的折射率高于2.3。
10.根据权利要求1－8中任一所述的光束成像装置，其特征在于，所述包层(20)和/或所述图形层(10)中的至少一个的禁带宽度不小于2.3eV。
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