[实用新型]一种高纯三氧化硫提纯设备有效
申请号: | 201822201004.2 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN209815695U | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 阮汝明 | 申请(专利权)人: | 江苏达诺尔科技股份有限公司 |
主分类号: | C01B17/90 | 分类号: | C01B17/90 |
代理公司: | 32313 苏州诚逸知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 高娟 |
地址: | 215500 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 花盘 三氧化硫气体 本实用新型 塔体 栅板 喷头 高效低成本 喷头安装 三氧化硫 提纯设备 通气装置 体内部 高纯 液封 加热 净化 | ||
本实用新型公开了一种高纯三氧化硫提纯设备,包括:塔体,安装在所述塔体内部的花盘和喷头,所述花盘上安装有填料,所述喷头安装在所述填料的上方,加热后的三氧化硫气体由塔体下方进入塔内,所述花盘由栅板、以及安装在所述栅板上的一强制液封和若干通气装置组成。通过上述方式,本实用新型能够提高三氧化硫气体的净化纯度,且能够达到高效低成本的效果。
技术领域
本实用新型涉及化学品提纯设备领域,特别是涉及一种高纯三氧化硫提纯设备。
背景技术
对于湿化学品的基本要求是超净和高纯。它广泛用于超大规模集成电路,大屏幕、超薄高清晰度液晶显示器制造、太阳能电池硅片制备等微电子工业中。它在半导体芯片、太阳电池硅片、液晶显示面板加工中起到清洗或蚀刻的两大功效,达到清除品晶圆表面残留的有机污染物,降低金属杂质的残留量的目的。
超净高纯级硫酸为强酸性清洗、腐蚀剂,在集成电路制作过程中应用最多,主要用于超大规模集成电路工艺技术的生产,目前超净高纯硫酸占湿电子化学品份额的16%左右。而生产超净高纯硫酸的关键就是如何制取高纯三氧化硫。传统的制取高纯三氧化硫为精馏,但精馏产能不大且能耗较大而气体吸收虽然产能大幅度提高了但是三氧化硫的一次净化纯度达不到高纯要求。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是:针对现有技术的不足,提供一种高纯三氧化硫提纯设备,能够提高三氧化硫气体的净化纯度,且能够达到高效低成本的效果。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种高纯三氧化硫提纯设备,包括:塔体,安装在所述塔体内部的花盘和喷头,所述花盘上安装有填料,所述喷头安装在所述填料的上方,加热后的三氧化硫气体由塔体下方进入塔内,所述花盘由栅板、以及安装在所述栅板上的一强制液封和若干通气装置组成。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述强制液封由液封管和液封槽组成,所述液封管可调节高度地插设在所述液封槽内。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述通气装置由通气管、套设在所述通气管上的泡罩、安装在所述通气管头端的堵头、以及固定所述通气管和泡罩的螺母。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述强制液封位于所述若干通气装置的中间位置。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述塔体的材质为PTFE。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述花盘的材质为PTFE。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述填料的材质为PTFE。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述喷头的材质为PTFE。
本实用新型的有益效果是:通过采用特殊结构设计的花盘,能够使上升的三氧化硫气体与液封里面的超纯洗涤液充分接触,使三氧化硫气体经过高纯度液封进行一次洗涤,再经过填料进行二次提纯,从而达到净化三氧化硫的要求,并且使二次提纯后的三氧化硫气体达到高纯;本设备集多次纯化设备为一体,从而达到高效低成本的效果。
附图说明
图1是本实用新型一种高纯三氧化硫提纯设备的结构示意图;
图2是图1所示花盘的结构示意图;
图3是图2所示通气装置的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、塔体,2、花盘,21、栅板,22、液封管,23、液封槽,24、通气装置,241、通气管,242、泡罩,243、堵头,244、螺母,3、填料,4、喷头。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
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