[实用新型]基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台

说明书

本实用新型涉及书法技术领域，具体为基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台，所述砚台的中部开设容纳池，所述容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体，所述毛笔修整体与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池。本实用新型的有益效果是：通过在砚台中设置的毛笔修整体，能够有效的改变现有技术下在砚台边缘修整毛笔的问题，避免墨汁的浪费和墨汁污染桌面；通过在砚台边缘采用倾向墨池的内倾斜边缘的边界设计，可以让溅在砚台边缘的墨池流回内部，进一步的防止墨池流出；本实用新型相比现有技术，能够很好的解决漏墨的问题，使砚台外侧和桌面保持整洁。

技术领域

本实用新型涉及书法技术领域，具体为基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台。

背景技术

现有的砚台除了常规必有的墨池，往往没有中心“毛笔修整体”或者中心升起的“修整体”高度低于砚台边界。在长期的书写过程中，因毛笔蘸墨后需要在砚台边界修整笔态，调整墨水含量，导致墨水会沿砚台外壁流到桌面上并弄污桌面。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台，所述砚台的中部开设容纳池，所述容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体，所述毛笔修整体与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池。

优选的，所述毛笔修整体的上端一侧向上突出设置毛笔修整边条，毛笔修整边条的内侧壁呈倾斜设置为修整面，且毛笔修整边条的修整面与水平面夹角不小于5°

优选的，所述毛笔修整体的上端在远离毛笔修整边条的方向上向下倾斜设置倾斜面，且倾斜面与修整面相接触。

优选的，所述砚台上端内侧向下倾斜设置内倾斜边缘。

优选的，所述修整面的表面呈磨砂设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过在砚台中设置的毛笔修整体，能够有效的改变现有技术下在砚台边缘修整毛笔的问题，避免墨汁的浪费和墨汁污染桌面；

2、通过在砚台边缘采用倾向墨池的内倾斜边缘的边界设计，可以让溅在砚台边缘的墨池流回内部，进一步的防止墨池流出；

3、本实用新型相比现有技术，能够很好的解决漏墨的问题，使砚台外侧和桌面保持整洁。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的俯视图；

图3为本实用新型的正视图；

图4为本实用新型的剖面图；

图5为本实用新型的左视图；

图6为本实用新型的右视图。

图中：砚台1、毛笔修整体2、环形墨池3、倾斜面4、毛笔修整边条5、内倾斜边缘6。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图6，本实用新型提供一种技术方案：基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台1，砚台1的中部开设容纳池，