[实用新型]一种真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括镀膜室、磁控溅射机、第一驱动单元、第二驱动单元、第一固定件、第二固定件和基材放置件，磁控溅射机设于镀膜室顶部中间位置；第一驱动单元和第二驱动的输出轴分别贯穿镀膜室上位于同一方向上的两个侧壁；第一固定件和第二固定件分别与第一驱动单元和第二驱动单元相连；基材放置件包括上盖、下盖和弹性板，上盖和下盖的四周分别设有第一外延边和第二外延边；上盖和下盖上均设有若干个通孔；弹性板设于上盖与下盖之间，包括两侧分别设有若干个弹片的板体，各弹片的位置分别与上盖或下盖上对应的通孔相适应。本实用新型通过驱动承载有基材的基材放置件转动，实现分别对位于弹片两侧的基材镀膜后，提高基材的喷涂均匀性。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

气相沉积技术包括物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，对于要求产生特性形状的镀膜膜层时一般采用掩膜工艺。现有技术中的真空镀膜机内部用于放置基材的工位大多结构比较简单，且是固定不变的，比如，有一些真空镀膜机内会设置具有多层结构的放置架，在放置架的每一层均放上待镀膜的基材，由于磁控溅射机的位置是固定的，对于离磁控溅射机较近的基材则喷涂较均匀，但是对于离磁控溅射机较远的基材则喷涂效果会差一些。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型提出一种真空镀膜设备，其能够实现当完成其中一个基材的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材放置件转动，从而实现对另一个基材进行镀膜，不仅能够大大提高生产效率，且能够提高基材的喷涂均匀性。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种真空镀膜设备，包括：

镀膜室，所述镀膜室为双层结构，包括外层和内层；

磁控溅射机，所述磁控溅射机设于所述镀膜室内层顶部的中间位置；

第一驱动单元和第二驱动单元；所述第一驱动单元和第二驱动单元相对设置，均位于镀膜室的外层和内层之间，二者的输出轴分别贯穿镀膜室内层上位于同一方向上的两个侧壁；

第一固定件和第二固定件，所述第一固定件和第二固定件的一端分别与所述第一驱动单元和第二驱动单元的输出轴相连；

基材放置件，所述基材放置件的两端分别与所述第一固定件和第二固定件的另一端相连，其包括上盖、下盖和弹性板，所述上盖和下盖的四周分别设有第一外延边和第二外延边，当二者盖合时，所述第一外延边与第二外延边贴合；所述上盖和下盖上均设有若干个通孔；所述弹性板设于所述上盖与下盖之间，其包括板体，所述板体的两侧均设有若干个翘起的弹片，各弹片的位置分别与上盖或下盖上对应的通孔相适应。

优选地，所述弹片的横截面为圆形，其一端与所述板体固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现点接触。

优选地，所述弹片的横截面为矩形，其一端与所述板体固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现线接触。

优选地，所述弹片的厚度为0.1mm至5mm。

优选地，所述弹片由铟铊合金、镍钛合金、或者铜铝镍合金制成。

优选地，所述上盖和下盖上的通孔的位置相对应或者不对应。

优选地，所述上盖和下盖上的通孔的横截面为圆形或者矩形。

优选地，所述基材放置件与镀膜室之间为间隙配合。

优选地，所述上盖和下盖上均设有把手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果：