[实用新型]一种真空镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括镀膜室、第一磁控溅射机、第二磁控溅射机、第三磁控溅射机、第一驱动单元、第二驱动单元、第一U型固定件、第二U型固定件和基材安装组件，各磁控溅射机均设于镀膜室顶部中间位置，三者延长线交汇于同一点；第一驱动单元和第二驱动单元相对设置，二者的输出轴分别贯穿镀膜室上位于同一方向上的两个侧壁后与基材安装组件的端部相连；基材安装组件包括上板和下板，上板和下板的四个角处均通过弹性件相连；上板和下板上分别设有若干个对称设置通孔。本实用新型能够实现当完成基材其中一面的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材安装组件转动，从而实现对基材另一面的镀膜，能够大大提高生产效率。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜机。

背景技术

真空溅射镀膜因其污染小而被广泛应用在各类镀膜工艺中，其是通过真空溅射的方式使靶材上分离的原子或分子附着在基材上形成镀层。现有技术中的真空镀膜机大多是直接在镀膜机内部设置固定工位，然后将待镀膜的基材直接放置于工位上，启动真空镀膜机开始镀膜，由于工位是无法转动的，因此，一次只能对基材的其中一面进行镀膜，对于需要双面镀膜的基材，则需要在基材冷却后，取出并翻面，然后进行另一面的镀膜，可见操作极为繁琐，且由于需要等待基材冷却之后才能进行翻面，因此必然浪费很多时间，造成生产效率低下的问题。

另外，现有的真空镀膜机在镀膜时，只能安装一种靶材，当无法找到与基材有效结合的靶材时，则很容易会出现膜层与基材之间的结合力较差，从而导致膜层很容易在使用过程中出现磨损等问题。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型提出一种真空镀膜机，其能够实现当完成基材其中一面的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材安装组件转动，从而实现对基材另一面的镀膜，能够大大提高生产效率。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种真空镀膜机，包括：

镀膜室，所述镀膜室为双层结构，包括外层和内层；

第一磁控溅射机、第二磁控溅射机和第三磁控溅射机，各磁控溅射机均设于镀膜室内层顶部的中间位置处，且三者的延长线交汇于同一点；

第一驱动单元和第二驱动单元；所述第一驱动单元和第二驱动单元相对设置，均位于镀膜室的外层和内层之间，二者的输出轴分别贯穿镀膜室内层上位于同一方向上的两个侧壁；

第一U型固定件和第二U型固定件，二者结构相同，均包括压板、支撑板和连接板，所述压板设于支撑板上方，其端部滑设于连接板上，所述支撑板的端部与连接板固定相连，所述第一U型固定件和第二U型固定件中的连接板分别与第一驱动单元和第二驱动单元的输出轴相连，所述第一U型固定件与第二U型固定件上的开口相对，且所述压板、支撑板上对应位置处均设有第一定位孔；

基材安装组件，所述基材安装组件的两端分别位于所述第一U型固定件和第二U型固定件的开口内，其包括上板和下板，所述上板和下板的四个角处均通过弹性件相连；所述上板和下板上分别设有若干个对称设置通孔，且上板和下板与第一U型固定件和第二U型固定件上的第一定位孔对应的位置处均设有第二定位孔；

螺钉，所述螺钉贯穿所述第一定位孔和第二定位孔。

优选地，所述第一磁控溅射机、第二磁控溅射机和第三磁控溅射机上分别安装有第一靶材、第二靶材和第三靶材，所述第一靶材、第二靶材和第三靶材由不同材料制成。

优选地，所述第一靶材与待镀膜基材之间的结合力大于设定的第一阈值；所述第二靶材与第一靶材之间的结合力大于设定的第二阈值；所述第三靶材与第二靶材之间的结合力大于设定的第三阈值。

优选地，所述基材安装组件与镀膜室之间为间隙配合。