[实用新型]照明用LED电源的整流二极管有效

专利信息
申请号: 201822254278.8 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209199946U 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 徐蓓;尹妍
地址: 210034 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 高掺杂 照明用 衬底 整流二极管 基环 本实用新型 碳纳米管 低掺杂 钝化膜层 环形结构 桥式整流 闩锁效应 复合层 能力强 传导 内环
【说明书】:

本实用新型公开了照明用LED电源的整流二极管,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂的P型硅基层;所述N型硅衬底上有两个环形结构,外环为高掺杂的N型硅扩散层,内环为高掺杂的P型硅基环,所述高掺杂的P型硅基环位于高掺杂的P型硅基层和高掺杂的N型硅扩散层之间;低掺杂的N型硅衬底和高掺杂的P型硅基层形成PN结;所述N型硅衬底、高掺杂的P型硅基层、高掺杂的N型硅扩散层和高掺杂的P型硅基环上设有碳纳米管CNT层;所述碳纳米管CNT层上设有SiN钝化膜层。本实用新型的照明用LED电源的整流二极管采用CNT和SiN复合层,单向传导能力强,反向保护效果好,结合一个P+保护环和N+保护环降低闩锁效应,整流性能稳定,适用于照明用LED电源的桥式整流结构。

技术领域

本实用新型涉及半导体功率器件,特别涉及照明用LED电源的整流二极管。

背景技术

基于二极管的单向导通性能,利用二极管进行整流,可将交流电转换为直流电,但作为整流元件的整流二极管,需要针对整流方式、负载大小进行不同的整流二极管选择,如果选择不当,则会导致不能安全工作,甚至可能因高压击穿烧了二极管;或者大材小用造成浪费。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种照明用LED电源的整流二极管。

为实现上述技术目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种照明用LED电源的整流二极管,硅晶片尺寸为1.3mm×1.3mm,有源区尺寸0.85mm×0.85mm,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂的P型硅基层;所述N型硅衬底上有两个环形结构,外环为高掺杂的N型硅扩散层,内环为高掺杂的P型硅基环,所述高掺杂的P型硅基环位于高掺杂的P型硅基层和高掺杂的N型硅扩散层之间;低掺杂的N型硅衬底和高掺杂的P型硅基层形成PN结;所述N型硅衬底、高掺杂的P型硅基层、高掺杂的N型硅扩散层和高掺杂的P型硅基环上设有碳纳米管CNT层;所述碳纳米管CNT层上设有SiN钝化膜层。

作为本实用新型的进一步改进,所述N型硅衬底的背面沉积金属Ag作为阴极,所述高掺杂的P型硅基层、高掺杂的N型硅扩散层和碳纳米管CNT层上沉积金属Al作为阳极;阴极金属电极和阳极金属电极外设有PI保护膜。

作为本实用新型的进一步改进,所述环形结构曲率为225μm;进一步的,所述外环高掺杂的N型硅发射层宽度为55μm,硅基环的宽度为15μm;外环高掺杂的N型硅发射层、高掺杂的P型硅基环、高掺杂的P型硅基层间横向距离依次为100μm、55μm。

作为本实用新型的进一步改进,所述硅晶片厚度为242±10μm,所述衬底厚度为55μm,所述高掺杂的P型硅基层深度为18μm。

作为本实用新型的进一步改进,所述低掺杂的N型硅衬底电阻率为30Ω·cm。

作为本实用新型的进一步改进,所述SiN钝化膜层厚度为5μm。

作为本实用新型的进一步改进,所述阳极金属Al的厚度为4μm,所述阴极金属Ag的厚度为0.5μm。

本实用新型的照明用LED电源的整流二极管采用CNT和SiN复合层,单向传导能力强,反向保护效果好,结合一个P+保护环和N+保护环降低闩锁效应,整流性能稳定,适用于照明用LED电源的桥式整流结构。

附图说明

图1为本实用新型实施例1的芯片平面结构示意图;

图2为本实用新型硅晶片保护环结构示意图;

其中,图中涉及的数值单位为μm。

具体实施方式

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