[实用新型]一种打磨抛光装置

说明书

本实用新型提供了一种打磨抛光装置，属于进给设备领域，包括设有滑槽和滑轨的底板、滑动连接在滑轨上的支撑板和与滑槽滑动连接的推块，滑槽与滑轨平行设置，推块与支撑板之间设有铰接杆且铰接杆两端分别与推块和支撑板相对的面铰接，推块上还设有与丝杠配合的螺孔并在丝杠的带动下推动支撑板沿滑轨长度方向滑动，底板在支撑板的滑动路径上设有倾斜向上的上滑面，支撑板底部设有与所述上滑面倾斜角度相同的斜面。本实用新型具有可以斜向也可以直向输送的优点。

技术领域

本实用新型涉及一种抛光设备，更具体的说，涉及一种打磨抛光装置。

背景技术

在进行斜面抛光时，抛光装置本身一般为水平或者竖直进给，无法斜向进给导致抛光轮与斜面各部位接触深度不一，容易导致抛光盘外的纤维长期保持弯曲，控制不当容易磕碰到抛光轮主芯，很难手动实现斜面的加工。因此，设计一种可以实现平面和斜面打磨的装置，是十分必要的。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是针对现有技术中所存在的上述不足而提供一种打磨抛光装置，解决了现有技术中，手动装置难以打磨斜面的问题。

为实现上述目的，本实用新型采用了如下的技术方案：

一种打磨抛光装置，包括设有滑槽和滑轨的底板、滑动连接在滑轨上的支撑板和与滑槽滑动连接的推块，所述滑槽与滑轨平行设置，所述推块与所述支撑板之间设有铰接杆且铰接杆两端分别与所述推块和所述支撑板相对的面铰接，所述推块上还设有与丝杠配合的螺孔并在丝杠的带动下推动支撑板沿滑轨长度方向滑动，所述底板在支撑板的滑动路径上设有倾斜向上的上滑面，所述支撑板底部设有与所述上滑面倾斜角度相同的斜面。

相比于现有技术，本实用新型具有如下有益效果：

采用滑轨与斜面结合的方式，实现装置的直线和斜向进给，以适应更多的加工情形；丝杠不直接与支撑板接触，通过铰接杆和推块间接为支撑板提供动力，有利于支撑板在两个方向的移动。

本实用新型的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本实用新型的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。

附图说明

图1为支撑板在滑轨上时的示意图；

图2为支撑板在上滑面上时的示意图；

图3为本实用新型的左视图；

图4为支撑板处的右视图；

图5为斜面时抛光轮结构示意图；

图6为平面时抛光轮结构示意图；

图7为抛光片结构示意图。

其中，底板1、支撑板2、推块3、铰接杆4、丝杠5、上滑面6、斜面7、上滑体8、斜面体9、铰接板10、滑轨11、滑槽12、凹槽13、抛光轮14、抛光片芯15、抛光丝16。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与作用更加清楚及易于了解，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步阐述：

如图1-7所示，本实用新型提出了一种打磨抛光装置，包括设有滑槽12和滑轨11的底板1、滑动连接在滑轨11上的支撑板2和与滑槽12滑动连接的推块3，所述滑槽12与滑轨11平行设置，所述推块3与所述支撑板2之间设有铰接杆4且铰接杆4两端分别与所述推块3和所述支撑板2相对的面铰接，所述推块3上还设有与丝杠5配合的螺孔并在丝杠5的带动下推动支撑板2沿滑轨11长度方向滑动，所述底板1在支撑板2的滑动路径上设有倾斜向上的上滑面6，所述支撑板2底部设有与所述上滑面6倾斜角度相同的斜面7。