[实用新型]X射线双相位光栅相衬成像系统

权利要求书

1.一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G₀、相位光栅和X射线探测器，其特征在于，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁，所述第一相位光栅G₁、第二相位光栅G′₁位于源光栅G₀和X射线探测器之间，在第一相位光栅G₁后形成自成像次级源G₂；所述X射线管发出的X射线、源光栅G₀与第一相位光栅G₁组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G₂与第二相位光栅G′₁组成逆泰伯劳系统。

2.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第一相位光栅G₁的位置与周期满足：使X射线经源光栅G₀后传播到第一相位光栅G₁处的相干长度不小于第一相位光栅G₁的周期；所述第二相位光栅G′₁的位置与周期满足：自成像次级源G₂传播到第二相位光栅G′₁处的相干长度不小于第二相位光栅G′₁的周期。

3.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述自成像次级源G₂位于所述第一相位光栅G₁的泰伯距离处。

4.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁的周期相同；所述源光栅G₀与第一相位光栅G₁之间的间距R₁、第二相位光栅G′₁与其形成的自成像条纹G′₂之间的间距R₂′相等；

或者所述第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁的周期不同；所述源光栅G₀与第一相位光栅G₁之间的间距R₁、第二相位光栅G′₁与其形成的自成像条纹G′₂之间的间距R₂′不同。

5.根据权利要求4所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第二相位光栅G′₁形成的自成像条纹G′₂的周期为20-300微米。

6.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述源光栅G₀为将入射光调制为相干光的吸收光栅，或者为耦合到X射线阳极靶上的源光栅结构。

7.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述源光栅G₀的周期为1-50微米，占空比为0.25-0.5。

8.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述X射线管与所述源光栅G₀的距离为0mm-100mm；所述源光栅G₀与所述第一相位光栅G₁的距离为5mm-1000mm；所述第二相位光栅G′₁与所述X射线探测器的距离为100mm-2000mm。

9.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁都各自包括交替设置的透过X光线的透过层和相位改变层。

10.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述X射线探测器前，并在第二相位光栅G′₁的泰伯距离处可设有一周期与自成像条纹G′₂相同的吸收光栅。