[实用新型]一种X射线源

权利要求书

1.一种X射线源，其特征在于，包括：

电子束产生装置，配置用于发射电子束；

X射线靶(1)，所述X射线靶(1)设置在所述电子束产生装置发射的电子束的发射方向上；

准直器(3)，所述准直器(3)包括准直孔(31)并且所述准直孔(31)位于所述电子束产生装置的发射端和所述X射线靶(1)之间，所述准直孔(31)的尺寸小于所述X射线靶(1)的尺寸，所述电子束产生装置发射的电子束(2)通过所述准直孔(31)照射在所述X射线靶(1)上以产生X射线。

2.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，还包括过滤片(4)，所述过滤片(4)设于所述X射线靶(1)远离所述电子束产生装置的一侧以过滤透射过所述X射线靶(1)的电子。

3.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述准直器(3)包括位于所述准直器(3)的远离所述电子束产生装置的端部的凹槽(32)，所述X射线靶(1)容置在所述凹槽(32)内固定连接至所述准直器(3)，所述凹槽(32)与所述准直孔(31)连通。

4.根据权利要求2所述的X射线源，其特征在于，所述准直器(3)的远离所述电子束产生装置的端部设有凹槽(32)，所述X射线靶(1)容置在所述凹槽(32)内固定连接至所述准直器(3)，所述凹槽(32)与所述准直孔(31)连通，所述过滤片(4)与所述准直器(3)和所述X射线靶(1)相抵接以将所述X射线靶(1)夹持在所述准直器(3)和所述过滤片(4)之间。

5.根据权利要求3或4所述的X射线源，其特征在于，所述凹槽(32)的深度等于所述X射线靶(1)的厚度。

6.根据权利要求4所述的X射线源，其特征在于，所述凹槽(32)的深度小于所述X射线靶(1)的厚度，所述过滤片(4)在朝向所述X射线靶(1)的一侧上设有定位槽以便容置从所述凹槽(32)中凸出的所述X射线靶(1)。

7.根据权利要求4所述的X射线源，其特征在于，所述凹槽(32)的深度大于所述X射线靶(1)的厚度，所述过滤片(4)在朝向所述X射线靶(1)的一侧上设有定位凸块以便伸至所述凹槽(32)中抵接所述凹槽(32)中的所述X射线靶(1)。

8.根据权利要求4所述的X射线源，其特征在于，所述过滤片(4)的横截面的形状与所述准直器(3)的横截面的形状相同，所述过滤片(4)的横截面的尺寸与所述准直器(3)的横截面的尺寸相同。

9.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述X射线靶(1)的厚度不大于1mm。

10.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述X射线靶(1)由钨、铜、银和钯中的至少一种制成。

11.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述准直器(3)由原子序数不大于12的材料制成。

12.根据权利要求2所述的X射线源，其特征在于，所述过滤片(4)由原子序数不大于12的材料制成。

13.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述准直器(3)在所述准直孔(31)的外边缘设置有显示所述准直孔(31)的尺寸的刻度。

14.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述X射线靶(1)和所述准直器(3)设于所述X射线源的真空腔室的内部。

15.根据权利要求1所述的X射线源，其特征在于，所述X射线靶(1)和所述准直器(3)设于所述X射线源的真空腔室的外部，所述电子束产生装置发射的电子束(2)通过所述电子束产生装置的透射窗(5)和所述准直器(3)的准直孔(31)照射至所述X射线靶(1)上。