[发明专利]数字微流体装置及其制造方法、微流体装置、芯片实验室装置和数字微流体方法有效

专利信息
申请号: 201880000758.1 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108883415B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 耿越;蔡佩芝;车春城;庞凤春 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 刘悦晗;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 数字 流体 装置 及其 制造 方法 芯片 实验室
【权利要求书】:

1.一种数字微流体装置,包括:

基底基板;和

电极阵列,其包括连续地排列在所述基底基板上的多个分立电极;

其中,所述多个分立电极能够分组为多个第一电极组,所述多个第一电极组中的每一个包括多个直接相邻的分立电极;

所述多个第一电极组中的每个单独组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面的整体形状具有在一侧的凹部和在相对侧的朝向第一方向突出的凸部;

所述多个分立电极能够替代地分组为多个第二电极组,所述多个第二电极组中的每一个包括多个直接相邻的分立电极;

所述多个第二电极组中的每个单独组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面的整体形状具有在一侧的凹部和在相对侧的朝向第二方向突出的凸部;

所述第一方向和所述第二方向彼此不同;

还包括:多条第一信号线和多条第二信号线;

其中,所述多条第一信号线分别连接至所述多个第一电极组,所述多条第一信号线中的每单独一条与所述多个第一电极组中的对应一组的所有直接相邻的分立电极相连接;并且

所述多条第二信号线分别连接至所述多个第二电极组,所述多条第二信号线中的每单独一条与所述多个第二电极组中的对应一组的所有直接相邻的分立电极相连接;

其中,所述第一电极组和所述第二电极组均包括直接相邻的双凸电极组和双凹电极组;所述双凸电极组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有双凸形状的整体形状;所述双凹电极组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有双凹形状的整体形状。

2.根据权利要求1所述的数字微流体装置,其中,所述多个第一电极组中的每个单独组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有第一凹凸形状的整体形状,所述第一凹凸形状的凸侧朝向所述第一方向突出;并且

所述多个第二电极组中的每个单独组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有第二凹凸形状的整体形状,所述第二凹凸形状的凸侧朝向所述第二方向突出。

3.根据权利要求2所述的数字微流体装置,其中,所述多个分立电极能够替代地分组为交替排列的多个双凹电极组和多个双凸电极组;

所述多个双凹电极组中的每单独一组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有双凹形状的整体形状;并且

所述多个双凸电极组中的每单独一组沿着实质上平行于所述基底基板的主表面的平面的截面具有双凸形状的整体形状。

4.根据权利要求3所述的数字微流体装置,其中,所述多个双凹电极组中的每单独一组与所述多个双凸电极组中的一组或多组直接相邻;并且

所述多个双凸电极组中的每单独一组与所述多个双凹电极组中的一组或多组直接相邻。

5.根据权利要求4所述的数字微流体装置,其中,所述多个双凹电极组中的每单独一组具有与所述多个双凸电极组中的直接相邻的一组或多组的相应部分实质上互补且绝缘的边界;并且

所述多个双凸电极组中的每单独一组具有与所述多个双凹电极组中的直接相邻的一组或多组的相应部分实质上互补且绝缘的边界。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的数字微流体装置,其中,所述多个双凹电极组中的每单独一组包括单个双凹电极;并且

所述多个双凸电极组中的每单独一组包括单个双凸电极。

7.根据权利要求3所述的数字微流体装置,其中,所述多个双凹电极组中的每单独一组具有与所述多个双凸电极组中的直接相邻的一组或多组的相应部分实质上互补且绝缘的边界;并且

所述多个双凸电极组中的每单独一组具有与所述多个双凹电极组中的直接相邻的一组或多组的相应部分实质上互补且绝缘的边界。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880000758.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top