[发明专利]阵列基板、显示面板、显示装置和阵列基板的制造方法

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：

第一衬底；

在所述第一衬底上的发光器件，所述发光器件包括沿远离第一衬底的方向上依次设置的第一电极、发光层和第二电极，其中所述第一电极为透明的，所述第二电极为反射的，其中，所述第二电极包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分在所述第一衬底上的投影与不透光部在所述第一衬底上的投影至少部分重叠，所述第二部分在所述第一衬底上的投影与所述不透光部在所述第一衬底上的投影不重叠，其中，所述第一部分能够部分透射来自所述发光层的光，并且其中所述第二部分能够反射来自所述发光层的光；

在所述第一衬底和所述发光器件之间的不透光部，其中，所述发光器件在所述第一衬底上的投影和所述不透光部在所述第一衬底上的投影部分重叠；

在所述不透光部和所述发光层之间的反射部件，

其中，所述第一部分和所述第二部分包括相同材料，所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度，或者

所述第一部分和所述第二部分包括不同材料。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述反射部件具有朝向所述第一衬底的第一表面和远离所述第一衬底的第二表面，所述第一表面和所述第二表面中的至少一者与所述第一电极接触。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述第一部分的厚度不超过20nm。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第二电极的材料包括：镁、银、铝或其混合物。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的阵列基板，其中，所述不透光部包括薄膜晶体管，所述阵列基板还包括：

在所述薄膜晶体管和所述第一电极之间的平坦化层；

在所述平坦化层的远离所述第一衬底的表面上的像素定义层，所述像素定义层位于所述第一电极两侧以限定所述阵列基板的像素区。

6.一种显示面板，包括如权利要求1-5中任一项所述的阵列基板和与所述阵列基板相对设置的盖板。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述盖板包括第二衬底和设置在所述第二衬底的朝向所述阵列基板的表面上的光检测器，所述光检测器在所述第一衬底上投影与所述第二电极的第一部分在所述第一衬底上的投影至少部分重叠，其中，所述第一部分在所述第一衬底上的投影与所述不透光部在所述第一衬底上的投影至少部分重叠，其中，所述第一部分能够部分透射来自所述发光层的光。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述光检测器包括PIN光电转换器件。

9.一种显示装置，包括：

根据权利要求7或8所述的显示面板；

数据处理单元，被配置为根据所述光检测器所检测的所述发光器件的亮度来生成控制信号；

发光控制单元，被配置为根据所述控制信号来调整所述发光器件的发光亮度。

10.一种阵列基板的制造方法，包括：提供第一衬底；

在所述第一衬底上形成不透光部；

在所述不透光部上形成发光器件和反射部件，其中，所述发光器件在所述第一衬底上的投影和所述不透光部在所述第一衬底上的投影部分重叠，并且其中发光器件包括沿远离第一衬底的方向上依次设置的第一电极、发光层和第二电极，其中所述第一电极为透明的，所述第二电极为反射的，并且其中，所述反射部件位于所述不透光部和所述发光层之间，其中，所述第二电极包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分在所述第一衬底上的投影与所述不透光部在所述第一衬底上的投影至少部分重叠，所述第二部分在所述第一衬底上的投影与所述不透光部在所述第一衬底上的投影不重叠，其中，所述第一部分能够部分透射来自所述发光层的光，并且其中所述第二部分能够部分反射来自所述发光层的光，

其中，所述第一部分和所述第二部分包括相同材料，所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度，或者

所述第一部分和所述第二部分包括不同材料。