[发明专利]具有可电控制的光学性能的功能元件在审

专利信息
申请号: 201880002791.8 申请日: 2018-10-18
公开(公告)号: CN109952220A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: M.克莱因;A.德勒格 申请(专利权)人: 法国圣戈班玻璃厂
主分类号: B60J3/04 分类号: B60J3/04;C23C16/50;C23C16/40;G02F1/00;H01L51/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张华;黄念
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 功能元件 中间层 阻挡层 光学性能 电控制 载体薄膜 堆叠体 源层 逐段 热塑性聚合物薄膜 聚合物分散液晶 复合玻璃板 增塑剂扩散 部件形成 内玻璃板 外玻璃板 输出面 增塑剂 薄层 沉积 密封 侧面 制造
【权利要求书】:

1.具有功能元件(5)的复合玻璃板(100),所述功能元件(5)具有可电控制的光学性能,所述复合玻璃板(100)包括:

由外玻璃板(1)、第一中间层(3a)、第二中间层(3b)和内玻璃板(2)形成的堆叠体序列,其中中间层(3a、3b)含有至少一个具有至少一种增塑剂的热塑性聚合物薄膜,且

在第一中间层(3a)和第二中间层(3b)之间至少逐段地布置具有可电控制的光学性能的功能元件(5),且

功能元件(5)是聚合物分散液晶(PDLC)功能元件,

其中功能元件(5)包括由至少下列部件形成的第二堆叠体序列

- 第一载体薄膜(15),

- 有源层(11)和

- 第二载体薄膜(14),且

其中有源层(11)的至少一个输出面(8)在功能元件(5)的至少一个侧面(5.1、5.2、5.3、5.4)处至少逐段地用至少一个阻挡层(4)密封,

如此形成阻挡层(4),以至于基本上防止增塑剂扩散透过阻挡层(4),且

阻挡层(4)是通过基于真空的薄层沉积方法来制造的。

2.根据权利要求1所述的复合玻璃板(100),其中所述基于真空的薄层沉积方法是下列方法之一:

○ 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD),特别优选

• 蒸镀,如

○ 热蒸镀

○ 电子束蒸镀

○ 激光束蒸镀

○ 离子辅助蒸镀(Ion Assisted Deposition,IAO)或

○ 电弧蒸镀

• 阴极溅射(溅射),如

○ 磁控溅射

○ 原子层沉积(Atomic Layer Depositon),如

▪ 等离子体辅助原子层沉积(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition,PEALD)

和/或

○ 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD),特别优选

• 等离子体辅助化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的复合玻璃板(100),其中输出面(8)在所有侧面(5.1、5.2、5.3、5.4)处是完全用阻挡层(4)密封的,或其中侧面(5.1、5.2、5.3、5.4)中的至少一个,优选所有侧面(5.1、5.2、5.3、5.4)是完全用阻挡层(4)密封的。

4.根据权利要求1至3任一项所述的复合玻璃板(100),其中如此形成阻挡层(4),以使其以与增塑剂扩散透过载体薄膜(14、15)相同或更大的程度防止增塑剂扩散透过阻挡层(4)。

5.根据权利要求1至4任一项所述的复合玻璃板(100),其中阻挡层(4)以单层片的形式由单层(4.1)形成,或以多层片的形式由至少两个单层(4.1、4.2)形成。

6.根据权利要求5所述的复合玻璃板(100),其中阻挡层(4)的单层(4.1)或至少一个单层(4.1、4.2)包含下列材料或由其构成:

a) 基于金属氧化物、基于金属氮化物或基于金属氮氧化物的层,其中所述金属优选为硅(Si)、铝(Al)、钽(Ta)或钒(V)或其混合物,优选亚化学计量或化学计量的氧化硅层,

b) 有机金属层,优选SiOxCy:H型的有机硅层,优选其中x为0.1至3且y大于0.3,

c) 无定形氢化碳(a-C:H),优选掺氮的无定形氢化碳(a-C:N:H)或掺氮和硅的无定形氢化碳(a-C:N:Si:H)

和/或

d) 其它的可通过气相沉积方法制备的陶瓷层和/或聚合物层,其减少或基本上防止增塑剂扩散,优选聚对二甲苯、聚偏二氯乙烯(PVDC)、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOP)或聚丙烯酸酯。

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