[发明专利]磁性隧道结装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201880002969.9 申请日: 2018-06-19
公开(公告)号: CN109564968B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 林相镐;权炯根;李性来 申请(专利权)人: 高丽大学校产学协力团
主分类号: H01L43/10 分类号: H01L43/10;H01L43/02;H01L43/12;H01L43/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 韩国首尔*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁性 隧道 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种磁性隧道结装置,包括:

衬底;

晶种层直接安置在所述衬底上;

包含铂的金属层直接安置在所述晶种层上;

包含钴的自由磁性层直接安置在所述金属层上;

隧道绝缘层直接安置在所述自由磁性层上;以及

保护层直接安置在所述隧道绝缘层上,

其中所述自由磁性层具有1.4 nm至1.8 nm的厚度,

其中所述自由磁性层具有正一级垂直磁各向异性常数K1eff及负二级垂直磁各向异性常数K2

其中所述正一级垂直磁各向异性常数及所述负二级垂直磁各向异性常数满足公式K2 -1/2 K1eff

2.根据权利要求1所述的磁性隧道结装置,其中所述晶种层包含钽。

3.根据权利要求1所述的磁性隧道结装置,还包括固定磁性层安置在所述隧道绝缘层上。

4.根据权利要求3所述的磁性隧道结装置,其中所述固定磁性层为钴、铁、镍或含有其至少一个的合金。

5.根据权利要求1所述的磁性隧道结装置,其中所述自由磁性层的磁化方向具有平面内方向与平面外方向之间的方向。

6.根据权利要求1所述的磁性隧道结装置,其中所述金属层的厚度为5nm。

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