[发明专利]光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种非离子型光致产酸剂，包含至少一个由以下化学式1表示的官能团：

[化学式1]

其中，在化学式1中，

R¹为C1至C10全氟烷基，以及

Z为由以下化学式2b表示的基团：

[化学式2b]

其中，在化学式2b中，

R²为氢或C3至C10烷基，

R³为由以下化学式3表示的基团，

[化学式3]

其中，在化学式3中，

R^a为化学键，

R^b为C1至C10亚烷基，

n为1至10的整数，以及

当n为2或更大时，重复两次或更多次的R^b各自彼此相同或不同。

2.一种非离子型光致产酸剂，其由以下化学式4a或4b表示：

[化学式4a]

[化学式4b]

其中，在化学式4a和4b中，

R¹为C1至C10全氟烷基，

R²为氢或C3至C10烷基，

R³为化学键或由以下化学式3表示的基团，

[化学式3]

其中，在化学式3中，

R^a为化学键或C1至C10亚烷基，

R^b为C1至C10亚烷基，

n为1至10的整数，

当n为2或更大时，重复两次或更多次的R^b各自彼此相同或不同，

T为-(C＝O)OH，以及

R^c为C4至C20脂族环。

3.根据权利要求1所述的非离子型光致产酸剂，

其中所述非离子型光致产酸剂由以下化学式5a或5b表示：

[化学式5a]

[化学式5b]

其中，在化学式5a和5b中，

R¹、R²和R³如以上在化学式1、2b和3中所限定的。

4.根据权利要求1所述的非离子型光致产酸剂，包含一个、两个、三个或四个如权利要求1中所限定的由化学式1表示的官能团。

5.根据权利要求1或2所述的非离子型光致产酸剂，其中R¹为三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基或十三氟己基。

6.一种用于厚膜的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物，包含根据权利要求1至5中任一项所述的非离子型光致产酸剂。

7.根据权利要求6所述的用于厚膜的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物，其中所述组合物还包含可碱性显影聚合物树脂、光引发剂和有机溶剂。