[发明专利]对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测有效

专利信息
申请号: 201880003957.8 申请日: 2018-08-13
公开(公告)号: CN109863424B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: R·斯特德曼布克;E·勒斯尔;W·吕腾 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 暗场 中的 入射 条纹 图样 探测
【权利要求书】:

1.一种用于对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的入射X射线条纹图样进行采样的X射线探测器(24),包括:

结构化闪烁体层(26),其包括多个平板(261、……、26N),所述多个平板被布置为对所述入射条纹图样进行采样并将所述入射条纹图样转换成多个光学平板信号;

光学探测器层(30),其与所述结构化闪烁体层光学通信,所述光学探测器层包括多个子像素(301、……、30N),其中,每个子像素与所述结构化闪烁体层的相应平板对齐,以探测从所述结构化闪烁体层的所述相应平板发射的相应光学平板信号;以及

信号组合装置(32),其被布置为以电子方式从所述多个子像素读出表示所述条纹图样的信号;

其中,所述子像素还包括多个光学探测单元(34),所述多个光学探测单元被配置为基于相关光学平板信号的存在来提供多个探测信号;并且

其中,所述信号组合装置(32)被配置为使得能够通过生成至少第一输出信号和第二输出信号作为所述光学探测器层(30)的所述光学探测单元的所述探测信号的组合来在第一探测方向和第二探测方向上采集相衬X射线图像和/或暗场X射线图像,而无需调整所述X射线探测器(24)的位置,其中,所述至少第一输出信号和第二输出信号均与因在所述结构化闪烁体层的相应平板上接收到所述入射X射线条纹图样而引起的空间信号幅度成比例,并且其中,所述X射线探测器的像素信号包括以由所述平板的宽度定义的条纹采样分辨率从至少两个相邻子像素采集的至少第一输出信号(31A)和第二输出信号(31B)。

2.根据权利要求1所述的X射线探测器(24),

其中,所述光学探测单元包括一个或多个硅光电倍增管,所述一个或多个硅光电倍增管被配置为探测从所述结构化闪烁体层的所述相应平板发射的所述相应光学平板信号。

3.根据权利要求1或2所述的X射线探测器(24),

其中,所述信号组合装置(32)能被配置成第一模式,在所述第一模式中,从相邻子像素的第一集合采集所述第一输出信号和所述第二输出信号,并且所述信号组合装置能被配置成第二模式,在所述第二模式中,从相邻子像素的第二集合采集所述第一输出信号和所述第二输出信号,其中,相邻子像素的所述第一集合和所述第二集合相对于彼此以一定角度对齐,由此使得能够在不同方向上进行子像素累积而无需调整所述X射线探测器的所述位置。

4.根据权利要求1或2所述的X射线探测器(24),

其中,一个子像素中的所述多个光学探测单元(34)并联电连接,以在操作中生成与由来自所述结构化闪烁体层的平板的光发射而触发的光学探测单元的数量成比例的信号。

5.根据权利要求1所述的X射线探测器(24),

其中,所述结构化闪烁体层(26)还包括第一闪烁体元件和第二闪烁体元件,所述第一闪烁体元件和所述第二闪烁体元件中的每个闪烁体元件均由不同的闪烁体材料形成,所述不同的闪烁体材料具有彼此不同的衰减时间常数,并且

其中,所述信号组合装置还包括与所述第一闪烁体元件和所述第二闪烁体元件的所述不同的衰减时间常数匹配的第一事件验证滤波器和第二事件验证滤波器,以鉴别第一光学探测器信号和第二光学探测器信号是否由光学串扰产生。

6.根据权利要求5所述的X射线探测器(24),

其中,所述信号组合装置(32)还包括与每个子像素相关联的互补事件验证滤波器,所述互补事件验证滤波器被配置为提供与从一相邻子像素到其它相邻子像素的光发射相关的信号。

7.根据权利要求5或6所述的X射线探测器(24),还包括:

结构化的滤色器层(72),其被设置在所述结构化闪烁体层与所述光学探测器层之间;

其中,所述第一闪烁体元件被配置为发射具有第一波长的可见光,并且所述第二闪烁体元件被配置为发射具有第二波长的可见光,并且所述结构化滤色器层被配置为在所述光学探测器层中的探测之前对具有相应波长的第一可见光和第二可见光进行滤波,以提高所述光学探测器层的串扰性能。

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