[发明专利]自洁涂层、自洁纤维、自洁地毯及其应用

权利要求书

1.一种自洁涂层，其特征在于，具有孔洞之间相互贯通的多孔结构，且所述涂层所含孔洞的体积占所述涂层总体积的40％-90％，所述多孔结构中的孔洞的孔径为0.5nm-10nm；

所述自洁涂层主要由主体材料制备而成，所述主体材料为氧化钛、氧化锆、氮化钛、氧化硅、氧化钨、g-C₃N₄半导体聚合物、钙钛矿半导体、银、铁、金、铝、铜、锌、锡和铂中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的自洁涂层，其特征在于，所述主体材料中至少包括两种粒径尺寸的材料，且两种粒径尺寸的材料的粒径比大于2；和/或

所述主体材料中至少一种材料为长宽比大于1的非球面晶体结构。

3.根据权利要求2所述的自洁涂层，其特征在于，所述主体材料中至少一种材料为长宽比在2～4之间的纺锤形结构。

4.根据权利要求1所述的自洁涂层，其特征在于，所述主体材料中至少一种材料的水接触角小于10度。

5.根据权利要求1所述的自洁涂层，其特征在于，所述主体材料至少含有锐钛矿结构氧化钛，且所述锐钛矿结构氧化钛中含有质量百分含量为0.01％-20％的氧缺陷氧化钛。

6.根据权利要求5所述的自洁涂层，其特征在于，所述氧缺陷氧化钛为氮掺杂氧化钛、碳掺杂氧化钛或氟掺杂氧化钛。

7.根据权利要求6所述的自洁涂层，其特征在于，所述氧缺陷氧化钛是通过晶格掺杂技术形成的氧缺陷氧化钛。

8.根据权利要求5所述的自洁涂层，其特征在于，所述锐钛矿结构氧化钛中还含有粒径小于10nm的量子点氧化钛。

9.根据权利要求5所述的自洁涂层，其特征在于，所述主体材料为所述氧化钛和所述氧化硅的组合；或

所述主体材料为所述氧化钛、所述氧化钨以及所述氧化硅的组合。

10.根据权利要求1-9任一项所述的自洁涂层，其特征在于，制备所述自洁涂层的原料还包括掺杂材料，所述掺杂材料为多孔性材料、光催化材料、抗静电性材料、亲水性材料和疏水性材料中的一种或多种。

11.根据权利要求10所述的自洁涂层，其特征在于，所述多孔性材料为碳纳米管、银纳米线、低密度聚乙烯、氧化铝和氧化锌中的一种或多种；和/或

所述光催化性材料为硫化镉、钙钛矿、氧化锌、ZnCdS:Cu、ZnS:Cu、Gd₂O₃:Eu³⁺和稀土元素金属中的一种或多种；和/或

所述疏水性材料为硅烷、氟硅烷、有机硅树脂和氟树脂中的一种或多种。

12.根据权利要求10所述的自洁涂层，其特征在于，所述的多孔性材料的孔隙率为20％以上和/或；所述的疏水性材料的水接触角大于110度。

13.一种自洁纤维，其特征在于，包括基底和权利要求1-12任一项所述的自洁涂层，所述自洁涂层形成于所述基底上，所述基底为纤维。

14.权利要求13所述的自洁纤维在制备自洁纺织品中的应用。

15.一种自洁地毯，其特征在于，含有权利要求13所述的自洁纤维。