[发明专利]偏振光照射装置以及偏振光照射方法

说明书

通过光取向处理，能够生成液晶分子的预倾斜角变小的取向膜。从光源(211)出射并透过形成于掩模(32)的透光区域的偏振光被向载置于工作台(11)的曝光对象物(W)照射。偏振光从相对于与工作台(11)的上表面大致正交的方向倾斜大致50度至大致70度的方向，向曝光对象物(W)照射。

技术领域

本发明涉及偏振光照射装置以及偏振光照射方法。

背景技术

专利文献1中，公开了一种液晶显示装置，具有：垂直取向型的液晶层；具有遮光部件的第1基板以及第2基板；被设置于第1基板的液晶层侧的第1电极以及被设置于第2基板的液晶层侧的第2电极；被设置为与液晶层相接的至少一个取向膜。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2011-53721号公报

发明内容

-发明要解决的课题-

图11是表示专利文献1所述的使用了垂直取向型的液晶层的液晶显示装置(以下，称为VA模式液晶显示装置)的像素区域的例子的图。像素区域100具有4个液晶域A、B、C、D，图中与3点钟方向为0°时的液晶域A、B、C、D的倾斜方向t1、t2、t3、t4分别是225°、315°、45°、135°。这样，通过将一个像素分割为多个区域，可改善视角特性。

但是，在液晶域的边界部分，液晶分子的取向混乱。液晶分子的取向不连续的区域由于不透过光，因此被视认为暗线。在像素区域100，分别在液晶域A、B、C、D，形成沿着边缘部的暗线(域线DL1、DL2、DL3、DL4)。

图12是对像素区域100的分割方法进行说明的图，(A)表示TFT基板(下侧基板)100a的取向膜的预倾斜方向，(B)表示滤色器基板(上侧基板)100b的预倾斜方向。图12中的圆柱示意性地表示液晶分子。在使用了TFT基板100a、滤色器基板100b的像素区域100中，从观察者一侧来看时，液晶分子倾斜成表示为圆柱状的液晶分子的端部(椭圆形部分)向观察者接近。

将下侧基板的像素区域分割为2个，向垂直取向膜赋予反平行的预倾斜方向PA1、PA2，并且将上侧基板的像素区域分割为2个，向垂直取向膜赋予反平行的预倾斜方向PB1、PB2。通过将下侧基板与上侧基板贴合，可得到像素区域100的取向分割构造。

专利文献1中记载了，通过从图12中的箭头所示的方向倾斜照射紫外线从而进行光取向处理，对取向膜规定液晶分子的预倾斜方向。此外，专利文献1中，记载了优选减小预倾斜角。

但是，专利文献1中，并没有公开在使用光取向处理来对取向膜规定液晶分子的预倾斜方向的情况下，减小预倾斜角的具体方法。

本发明鉴于这样的情况而作出，其目的在于，提供一种通过光取向处理，能够生成液晶分子的预倾斜角变小的取向膜的偏振光照射装置以及偏振光照射方法。

-解决课题的手段-

为了解决上述课题，本发明所涉及的偏振光照射装置的特征在于，例如具备：光源，出射偏振光；掩模，形成有使从所述光源出射的偏振光透过的透光区域；和工作台，载置被照射透过所述透光区域后的偏振光的曝光对象物，所述光源从相对于与所述工作台的上表面大致正交的方向倾斜大致50度至大致70度的方向，向所述曝光对象物照射偏振光。

通过本发明所涉及的偏振光照射装置，从相对于与工作台的上表面大致正交的方向倾斜大致50度至大致70度的方向，向曝光对象物照射偏振光。由此，通过光取向处理，能够生成液晶分子的预倾斜角变小的取向膜。通过使用这样生成的取向膜来生成液晶显示装置，从而在像素区域产生的暗线变细，显示质量变高。