[发明专利]包含基材和环境阻隔件的部件

权利要求书

1.一种包括基材(13；23)和环境阻隔件(12；22)的部件(11；21)，所述环境阻隔件形成在基材表面上，邻近基材表面(S)的至少一部分基材由包含硅的材料制成，其特征在于，所述环境阻隔件至少包括第一层(17；27)，所述第一层包含：

-摩尔含量在70％至99.9％范围内的式REa₂Si₂O₇的稀土二硅酸盐，其中REa是稀土元素；和

-摩尔含量在0.1％至30％范围内的至少一种式REb₂O₃的稀土氧化物，其中REb是不同于REa的稀土元素，

其中，所述环境阻隔件还包含存在于第一层上的第二层(19；29)，所述第二层至少包含：

-摩尔含量在85％至99.9％范围内的式REc₂SiO₅的稀土单硅酸盐；和

-摩尔含量在0.1％至15％范围内的至少一种式REd₂O₃的稀土氧化物，其中REd是不同于REc的稀土元素。

2.如权利要求1所述的部件(11；21)，其特征在于，REb选自铽Tb、铒Er、镝Dy、钆Gd、铕Eu、镥Lu、钐Sm、钇Y和镱Yb。

3.如权利要求2所述的部件(11；21)，其特征在于，REb选自铽Tb、铒Er和镝Dy。

4.如权利要求1至3中任一项所述的部件(11；21)，其特征在于，式REa₂Si₂O₇的稀土二硅酸盐在第一层(17；27)中以80％至95％范围内的摩尔含量存在，其中所述至少一种式REb₂O₃的稀土氧化物在第一层(17；27)中以5％至20％范围内的摩尔含量存在。

5.如权利要求1至3中任一项所述的部件(11；21)，其特征在于，REa选自钇Y和镱Yb。

6.如权利要求1至3中任一项所述的部件(11；21)，其特征在于，REd选自铽Tb、铒Er、镝Dy、钆Gd、铕Eu、镥Lu、钐Sm、钇Y和镱Yb。

7.如权利要求6所述的部件(11；21)，其特征在于，REd选自铽Tb、铒Er和镝Dy。

8.如权利要求6所述的部件(11；21)，其特征在于，式REc₂SiO₅的稀土单硅酸盐在第二层(19；29)中以85％至95％范围内的摩尔含量存在，其中所述至少一种式REd₂O₃的稀土氧化物在第二层(19；29)中以5％至15％范围内的摩尔含量存在。

9.如权利要求6所述的部件(11；21)，其特征在于，REc选自钇Y和镱Yb。

10.如权利要求1至3中任一项所述的部件(11；21)，其特征在于，REa是钇Y，REc是镱Yb，且REb和REd彼此独立，并且选自铽Tb、铒Er和镝Dy。