[发明专利]受补偿的位置特定处理设备和方法

权利要求书

1.一种用于利用束处理工件的设备，包括：

真空室，其具有用于形成粒子束并且利用所述粒子束处理工件的束线；

扫描器，其用于使所述工件平移通过所述粒子束；

扫描器控制电路，其被耦合至所述扫描器，并被配置成控制所述扫描器的扫描特性；

束控制电路，其被耦合至至少一个束线部件，并且被配置成根据用于在处理期间在至少两个不同状态之间切换的占空比来控制所述粒子束的束通量；以及

控制系统，其包括与所述扫描器控制电路和所述束控制电路耦合的控制器，所述控制系统被配置成处理与所述工件的至少一部分的属性相关联的参数数据以及形成用于所述工件的修正图，所述控制器被配置成确定在应用所述修正图时所述扫描器的扫描特性方面的至少一个限制并且响应于所确定的所述扫描器的扫描特性限制而通过所述束控制电路可控制地改变所述粒子束的所述占空比以补偿所述扫描特性限制。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述粒子束包括带电粒子束或不带电粒子束。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述粒子束包括中性束、气体团簇束、气体团簇离子束、离子束、电子束或其组合。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述真空室包括用于形成多个粒子束的多个束线。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述扫描特性包括扫描速度、扫描路径、扫描加速度、扫描位置或其中两个或更多个的任意组合。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述束控制电路在接通状态和断开状态之间切换所述粒子束，所述接通状态的束通量明显大于所述断开状态。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述束控制电路被耦合至离子发生器，并且其中所述离子发生器被控制成在带电状态和不带电状态之间切换所述粒子束。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述束控制电路控制从所述离子发生器发出并与所述粒子束相交的电子通量。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述束控制电路被耦合至加速电极，并且其中所述加速电极被控制成在至少两个不同的加速状态之间切换所述粒子束。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述束控制电路被耦合至粒子束偏转电极，并且其中所述束偏转电极被控制以在至少两个偏转状态之间切换所述粒子束，所述至少两个偏转状态包括与工件的相交状态和非相交状态。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述束控制电路被耦合至束门，并且其中所述束门被控制成在束门阻挡状态和束门无阻挡状态之间切换所述粒子束。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少两个不同状态包括接通状态和断开状态。

13.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制器被配置成确定所述扫描器控制电路达到所述扫描器的最大扫描速度，并且其中所述束控制电路响应于达到所述扫描器的所述最大扫描速度而通过减小用于在至少两个不同状态之间切换所述束通量的所述占空比来改变所述占空比。

14.根据权利要求1所述的设备，其中所述控制器被配置成确定所述扫描器控制电路达到所述扫描器的最大扫描加速度，并且其中所述束控制电路响应于达到所述扫描器的所述最大扫描加速度而通过减小用于在至少两个不同状态之间切换所述束通量的所述占空比来改变所述占空比。