[发明专利]原位HIC增长监测探针

权利要求书

1.一种用于齐平插入金属器材中的侵入式探针系统，其包括：

探针主体，其具有由构造成暴露于位于金属器材内的腐蚀物的暴露表面限定的第一实心端部，所述探针主体具有终止于与所述暴露表面间隔开的位置的内部开口；

插入件，其置于所述探针的内部开口内以便限定在所述插入件和所述探针主体的内壁之间限定的收集腔；

扩散屏障，其沿着所述探针主体的内壁设置并且由所述收集腔中由所述腐蚀物产生的气体基本上不能渗透的材料形成，以便防止所述气体从所述收集腔通过进入所述探针主体的周围内壁；

导管，其与所述收集腔流体连通，用于接收由所述腐蚀物产生的所述气体；和

压力测量装置，其联接到所述导管，用于测量由所述腐蚀物产生的所述气体的压力。

2.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述腐蚀物是在所述金属器材内部输送的液体，其中原子氢是由于所述腐蚀物和所述金属器材之间的接触而引起的所述金属器材腐蚀的副产物。

3.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述收集腔中由所述腐蚀物产生的所述气体是分子氢气。

4.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述插入件的第一端与所述探针主体的所述实心端部处于齐平邻接关系，由此所述收集腔围绕所述插入件的侧壁形成并与所述插入件的第一末端和所述实心端部之间的界面间隔开。

5.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述插入件包括圆柱形焊条，并且所述收集腔具有环形形状。

6.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述收集腔在所述探针主体内纵向延伸到距所述暴露表面的一定距离。

7.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述腐蚀物是在所述金属器材内输送的液体，其中原子氢是所述金属器材腐蚀的副产物，并且所述第一实心端部由允许原子氢扩散通过但具有抗HIC微结构的材料形成。

8.根据权利要求1所述的探针系统，其中包括所述暴露表面的所述第一实心端部由与所述金属器材相同的金属等级形成。

9.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述扩散屏障是氧化物层。

10.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述扩散屏障是奥氏体不锈钢套管。

11.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述内部开口包括盲孔，并且所述内部开口的封闭端由所述探针主体的所述第一实心端部限定。

12.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述插入件由具有低氢扩散性或无氢扩散性的材料形成。

13.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述插入件由奥氏体不锈钢材料形成。

14.根据权利要求1所述的探针系统，其还包括与所述探针主体的与所述第一实心端部相对的一端联接的探针帽；与探针主体联接的接入配件；和密封插入在所述金属器材中形成的接入孔中并与所述接入配件联接的联接支架。

15.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述探针帽包括外螺纹，所述外螺纹与所述接入配件中形成的内螺纹配合。

16.根据权利要求1所述的探针系统，其中所述腐蚀物是在所述金属器材内部输送的液体，其中原子氢是所述金属器材腐蚀的副产物，并且所述收集腔包括HIC模拟腔，其中扩散的原子氢渗透到所述收集腔内并且在所述收集腔内重新组合形成氢气并且随着所述收集腔中的氢气含量增加，所述收集腔中的压力相应地增加，模仿HIC过程，所述压力测量装置用氢传感器监测所述收集腔内的压力并测定相应的氢积聚率。