[发明专利]防污性膜有效
申请号: | 201880007354.5 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN110199211B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 芝井康博;厚母贤;中松健一郎 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02B1/18 | 分类号: | G02B1/18;B32B3/30;B32B27/30;G02B1/118 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝;刘宁军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防污 | ||
本发明提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。本发明的防污性膜具备:基材;以及聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,在上述防污性膜中,上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%。
技术领域
本发明涉及防污性膜。更详细地,涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的防污性膜。
背景技术
对于具有防反射性的光学膜,已进行了各种研究(例如,参照专利文献1~6)。特别是,已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学膜具有优异的防反射性。根据这种凹凸结构,由于折射率从空气层到基材连续地变化,所以能显著地减少反射光。
专利文献1:特开2015-129947号公报
专利文献2:特开2013-18910号公报
专利文献3:特开2013-39711号公报
专利文献4:特开2013-252689号公报
专利文献5:特许第5573836号公报
专利文献6:特许第5951165号公报
发明内容
然而,在这种光学膜中,虽然具有优异的防反射性,但另一方面,由于其表面的凹凸结构,所以当指纹(皮脂)等污垢附着时,附着的污垢易于扩展,而且,有时难以将进入到凸部之间的污垢擦除。另外,附着的污垢由于其反射率与光学膜的反射率大不相同,因此,易于被看到。因此,已要求在表面具有纳米尺寸的凹凸结构且对污垢的擦除性(例如指纹擦除性)即防污性优异的功能性膜(防污性膜)。
对此,本发明的发明人们进行了研究,发现在构成光学膜的凹凸结构的聚合物层中,通过钻研其构成材料,能实现除了防污性以外各种特性也提高了的防污性膜。具体地,发现作为聚合物层的构成材料,若配合氟系脱模剂,则防污性会提高,通过调整其配合量,能防止高温/高湿的环境下的渗出,可靠性也会提高。另外发现,作为聚合物层的构成材料,若配合单官能酰胺单体,则防污性膜的聚合物层与基材的紧贴性会提高。而且发现,作为聚合物层的构成材料,若配合具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯,则耐擦性会提高。
但是,本发明的发明人们经进一步研究发现,当在擦除了附着于聚合物层(凹凸结构)的表面的指纹后将防污性膜放置在高湿下时,擦除后的指纹的痕迹看上去浮现出来。特别是,在作为聚合物层的构成材料而配合了氟系脱模剂的情况下,由于附着的指纹难以扩展,所以擦除后的指纹的痕迹看上去显著地浮现出来。
如上所示,针对以往的防污性膜,存在提高防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性并且抑制高湿下的指纹的浮现的问题。但是,仍未找到解决上述问题的方案。例如,在上述专利文献1~6中,没有与高湿下的指纹的浮现有关的记载,存在改善的余地。
本发明是鉴于上述现状而完成的,其目的在于提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。
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