[发明专利]光学膜及光学膜的制造方法

权利要求书

1.光学膜，其包含在300～370℃的范围内具有基于DMA测定的tanδ的峰值的聚酰胺酰亚胺树脂，且具有3以下的YI值，

该聚酰胺酰亚胺树脂具有式(5)表示的结构单元及式(6)表示的结构单元：

式中，X表示2价的有机基团，Y表示4价的有机基团，Z表示2价的有机基团，并且

该聚酰胺酰亚胺树脂至少具有式(1)表示的结构单元，

式(1)中，R¹～R⁸各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～6的烷基或碳原子数为6～12的芳基，R¹～R⁸中包含的氢原子各自独立地可以被卤素原子取代，

A各自独立地表示-O-、-S-、-CO-或-NR⁹-，R⁹表示可以被卤素原子取代的碳原子数为1～12的烃基，

m为1～4的整数，

*表示化学键。

2.如权利要求1所述的光学膜，其中，在4000勒克斯的照度条件下按照ASTM D 3363进行测定，所述光学膜具有3B以上的铅笔硬度。

3.如权利要求1或2所述的光学膜，其还包含具有光吸收功能的添加剂。

4.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，具有光吸收功能的添加剂选自由紫外线吸收剂及上蓝剂组成的组。

5.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，聚酰胺酰亚胺树脂包含氟原子。

6.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，聚酰胺酰亚胺树脂至少具有来自含有氟原子的二胺及/或含有氟原子的四羧酸二酐的结构单元。

7.如权利要求1或2所述的光学膜，其具有20μm以上的厚度。

8.如权利要求1或2所述的光学膜，其具有40μm以上的厚度。

9.光学膜的制造方法，其至少包括下述工序：

(1)将至少包含在300～370℃的范围内具有基于DMA测定的tanδ的峰值的聚酰胺酰亚胺树脂及溶剂的树脂组合物涂覆于支承体的工序，所述聚酰胺酰亚胺树脂具有式(5)表示的结构单元及式(6)表示的结构单元：

式中，X表示2价的有机基团，Y表示4价的有机基团，Z表示2价的有机基团，并且

所述聚酰胺酰亚胺树脂至少具有式(1)表示的结构单元，

式(1)中，R¹～R⁸各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～6的烷基或碳原子数为6～12的芳基，R¹～R⁸中包含的氢原子各自独立地可以被卤素原子取代，

A各自独立地表示-O-、-S-、-CO-或-NR⁹-，R⁹表示可以被卤素原子取代的碳原子数为1～12的烃基，

m为1～4的整数，

*表示化学键；以及，

(2-1)将所述树脂组合物的涂膜于240℃以下的温度干燥后从支承体剥离的工序，或者，

(2-2)将所述树脂组合物的涂膜于240℃以下的温度干燥后从支承体剥离的工序、和于240℃以下的温度对剥离的膜进行加热的工序。

10.如权利要求9所述的制造方法，其中，树脂组合物还包含具有光吸收功能的添加剂。

11.如权利要求9或10所述的制造方法，其中，溶剂包含二甲基乙酰胺。