[发明专利]物理气相沉积处理系统的靶材冷却

权利要求书

1.一种物理气相沉积靶材组件，包括：

源材料；

盖板；

背板，所述背板具有前侧和背侧，所述背板经配置以在所述背板的所述前侧上支撑所述源材料；和

冷却管，所述冷却管包含入口端、第一出口端、入口列和在所述入口端与所述第一出口端之间的多个弯曲部，所述入口端配置成连接至冷却流体，所述第一出口端流体地耦接至所述入口端，所述入口列划分在所述入口列的第一侧上的第一对列和在所述入口列的第二侧上的第二对列，所述冷却管设置在所述背板与所述盖板之间，所述冷却管配置成置于邻近所述背板的所述背侧，以在物理气相沉积工艺期间冷却所述背板和所述源材料。

2.如权利要求1所述的物理气相沉积靶材组件，其中所述冷却管与所述背板分离并且所述冷却管提供含有所述冷却流体的闭合冷却回路。

3.如权利要求1所述的物理气相沉积靶材组件，所述多个弯曲部限定流动图案，所述流动图案包含多个列，并且所述背板进一步包括在所述背侧中的通道，所述通道经配置以接收所述冷却管。

4.如权利要求3所述的物理气相沉积靶材组件，所述流动图案包括至少六个列和五个弯曲部。

5.如权利要求3所述的物理气相沉积靶材组件，所述流动图案包括至少八个列和六个弯曲部。

6.如权利要求2所述的物理气相沉积靶材组件，所述入口端流体地连接至单一列，所述单一列通过分流连接件而流体地连接至所述第一对列和所述第二对列，并且所述第一出口端流体地连接至所述第一对列和第二对列。

7.如权利要求3所述的物理气相沉积靶材组件，所述入口端流体地连接至单一列，所述单一列通过分流连接件而流体地连接至所述第一对列和所述第二对列，并且所述第一出口端流体地连接至所述第一对列和所述第二对列。

8.如权利要求7所述的物理气相沉积靶材组件，所述冷却管包括单一入口端和单一出口端。

9.如权利要求7所述的物理气相沉积靶材组件，所述冷却管包括单一入口端和所述第一出口端与第二出口端，所述第一出口端流体地连接至所述第一对列，并且所述第二出口端流体地连接至所述第二对列。

10.如权利要求7所述的物理气相沉积靶材组件，所述冷却管包括多个入口端和多个出口端。

11.一种物理气相沉积靶材组件，包括：

源材料；

背板，所述背板具有前侧和背侧，所述背板经配置以在所述背板的所述前侧上支撑所述源材料；

盖板，所述盖板耦接至所述背板；和

通道，所述通道设置于所述盖板与所述背板之间，所述通道包含多个弯曲部，所述多个弯曲部限定流动图案，所述流动图案包含至少四个列和至少三个弯曲部，所述至少四个列和三个弯曲部流体地连接至入口端和第一出口端，入口列将所述至少四个列划分为在所述入口列的第一侧上的第一对列和在所述入口列的第二侧上的第二对列，所述通道经配置以使冷却流体邻近所述背板的所述背侧流动，以在物理气相沉积工艺期间冷却所述背板和所述靶材。

12.如权利要求11所述的物理气相沉积靶材组件，所述流动图案包含至少五个列，所述至少五个列包含流体地连接至所述入口端的所述入口列，所述入口列通过分流连接件而流体地连接至所述第一对列和所述第二对列。

13.如权利要求12所述的物理气相沉积靶材组件，所述流动图案包括至少六个列和五个弯曲部。

14.如权利要求12所述的物理气相沉积靶材组件，所述流动图案包括至少八个列和六个弯曲部。