[发明专利]软磁性扁平粉末

说明书

本发明的目的是提供能够防止金属粉末的扁平化加工时的氧化、实现低矫顽力的软磁性扁平粉末，为了达成该目的而提供一种软磁性扁平粉末，其为包含多个软磁性扁平粒子而成的软磁性扁平粉末，上述多个软磁性扁平粒子分别为以质量％计包含Fe：78％以上且83％以下、Si：13％以下(不包括0)、Al：超过5.0％且13％以下、选自Cr、Ni、Mo、Cu、Ti中的至少1种：合计1.0％以上且5.0％以下，且余量由Fe和不可避免的杂质构成的合金粒子。

相关申请的相互参照

本申请基于2017年2月6日申请的日本专利申请2017-19328号而要求优先权，并将其全部公开内容通过参照而援引至本说明书中。

技术领域

本发明涉及软磁性扁平粉末、例如用于各种电子设备的电磁波吸收体用软磁性扁平粉末。

背景技术

近年来，随着个人电脑、智能手机等电子设备和信息设备的快速发展，信息传达的高速化正在推进。由此，在电子设备的内部，由电磁波导致的错误操作逐渐成为问题。此外，这些电子设备放射出的电磁波对人体造成的影响也被视作问题。作为这些电子设备的电磁波吸收体，使用软磁性铁素体或软磁性扁平粉末。

尤其是，软磁性扁平粉末无需像软磁性铁素体那样地进行烧结而固化成形，其与树脂等混合而进行成形，因此为柔性且对于安装部的自由度高，因而主要被广泛利用于小型的电子设备。

该软磁性扁平粉末通过使用磨碎装置对金属粉末进行扁平化的方法来制作。该方法中，将甲苯这样的有机溶剂、金属粉末和粉碎介质(钢球)装入至磨碎装置中，并利用处于装置内部的旋转叶片进行粉碎和扁平化。这种方法中主要使用软磁性合金的Fe-Si-Al合金这样的脆的材料。

例如，日本特开2014-204051号公报(专利文献1)公开了使用上述方法制作的Fe-Si-Al合金。专利文献1的特征在于，Fe为84％～96％的高浓度，且Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu元素对Fe进行置换。

此外，日本特开2008-50644号公报(专利文献2)中，通过相对于Fe而添加Si：9.0％～12％、Al：1.0％～5.0％、Cr：1.0％～5.0％，从而实现了以往没有的高电阻率且低矫顽力。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-204051号公报

专利文献2：日本特开2008-50644号公报

发明内容

发明要解决的课题

如上所述，软磁性扁平粉末通过利用干式或湿式加工，在水或有机溶剂中将金属粉末与粉碎介质进行混合、粉碎来制作。此时，由于在水或有机溶剂中进行长时间的加工，因此，存在金属粉末氧化、磁特性劣化的倾向。因此，要求防止该金属粉末的氧化，进行扁平化。

然而，上述专利文献1中，虽然针对扁平加工时和热处理时的氧化所致的组成偏差有所叙述，但未进行明确的应对，成分研究的意图只不过是针对磁特性。此外，Fe的浓度高达84％～96％，虽然未提及耐氧化性和耐蚀性，但推测这些特性低。

此外，专利文献2记载了通过含有Al和Cr而使耐蚀性提高，但Al为低至5.0％以下的值。此外，其未考虑扁平化加工时发生的由氧化导致的磁特性劣化。

用于解决课题的手段

针对上述这样的专利文献1和2中未加考虑的课题，本发明人等进行了深入开发，结果发现：通过使Al的添加量增加，并且有意地添加除了Fe、Si、Al之外的元素，能够提高耐氧化性和耐蚀性且获得高的磁特性，从而完成了本发明。

即，本发明包括以下的软磁性扁平粉末和磁性片。