[发明专利]液晶面板的图案的形成方法以及形成有该图案的基板和掩模基板

说明书

公开了一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，包括由此形成的图案的液晶取向基板以及用于形成图案的掩模基板。通过在顶点双稳态液晶面板的液晶取向膜上形成非对称图案，在施加电压后，即使在零电位下也保持液晶方向，因此该图案的形成方法能够防止或最小化不必要的功耗。

技术领域

本说明书要求2017年3月7日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0028839的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。

本发明涉及一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法、包括由此形成的图案的液晶取向基板以及用于形成图案的掩模基板(mask substrate)，更具体地，涉及一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，该方法能够防止或最小化不必要的功耗，因为通过在顶点双稳态液晶面板或顶点双稳态装置(ZBD)的液晶取向膜上形成非对称图案，在施加电压后，即使在零电位下也保持液晶方向；包括由此形成的图案的液晶取向基板；以及用于形成图案的掩模基板。

背景技术

通常，当在驱动期间将电压施加到液晶时，液晶不透明地取向，相反地，当没有向液晶施加电压时，液晶透明地取向。然而，当需要长时间保持开启或关闭状态时，例如在天窗或电子书中，会产生不必要的电力损失。相反，在包括具有记忆特性(即使在未施加电压的状态下也能够显示信息)的向列液晶的顶点双稳态液晶面板中，一旦施加电压之后，即使在零电位下也保持液晶方向，并且根据电压的方向确定开/关，从而需要通过使用这种液晶面板来防止或最小化不必要的功耗。

[相关技术的引用]

韩国专利申请公开No.10-2016-0039655

发明内容

技术问题

如前所述，在顶点双稳态的液晶面板中，一旦施加电压之后，即使在零电位下也保持液晶方向，所以需要通过使用顶点双稳态液晶面板来防止或最小化不必要的功耗。然而，为了制造如上所述的顶点双稳态液晶面板，需要在液晶取向膜的一个表面或两个表面上以约1μm的周期形成图案，并且在这种情况下，图案需要非对称地形成。为此目的，由于基本上在倾斜形式的样本通常放置在腔室内部的情况下执行通过反应离子蚀刻(RIE)等进行干蚀刻的工艺，所以需要非常大的腔室尺寸，并且样本的离子束位置变化，因此存在难以形成大面积均匀图案的问题。

因此，本发明的目的是提供一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，该方法能够防止或最小化不必要的功耗，因为通过在顶点双稳态液晶面板的液晶取向膜上均匀地形成非对称图案，在施加电压后，即使在零电位下也保持液晶方向；包括由此形成的图案的液晶取向基板；以及用于形成该图案的掩模基板。

技术方案

为了实现该目的，本发明提供了一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，所述方法包括：(a)在硅基板上沉积硅基化合物；(b)通过使用压印在沉积的硅基化合物层的上部上形成引导图案；(c)通过干蚀刻将图案从所形成的引导图案转印到硅基化合物层上从而不连续地暴露硅基板；(d)通过湿蚀刻在硅基板上形成非对称形式的图案；(e)去除剩余的硅基化合物层，然后对硅基板的图案表面疏水处理(hydrophobicallytreating)；以及(f)通过使经表面处理的硅基板面对玻璃基板并在硅基板和玻璃基板之间提供电介质，将非对称形式的图案转印到玻璃基板上。

此外，本发明提供一种液晶取向基板，其包括通过形成图案的方法形成的图案，所述液晶取向基板包括：下基板，非对称图案形成在下基板中；上基板，设置在下基板的图案的上部上；以及液晶，设置在上基板和下基板之间。

另外，本发明提供一种由硅材料形成的掩模基板，在掩模基板上形成有非对称图案，用于形成液晶取向基板图案。

有益效果