[发明专利]低反射涂膜玻璃

权利要求书

1.低反射涂膜玻璃，包括：

玻璃基板；

设置在所述玻璃基板上并且具有2.0或更高的较高折射率和5nm至15nm的厚度的第一介电层；

设置在所述第一介电层上并且具有1.6或更低的较低折射率和200nm至220nm的厚度的第二介电层；

设置在所述第二介电层上并且具有2.0或更高的较高折射率和105nm至135nm的厚度的第三介电层；

设置在所述第三介电层上并且具有1.6或更低的较低折射率和175nm至200nm的厚度的第四介电层；

设置在所述第四介电层上并且具有2.0或更高的较高折射率和100nm至115nm的厚度的第五介电层；以及

设置在所述第五介电层上并且具有1.6或更低的较低折射率和75nm至85nm的厚度的第六介电层，

其中所述低反射涂膜玻璃表现出6％或更低的可见光反射率以及50％或更高的红外阻挡比，并且在相对于与所述低反射涂膜玻璃垂直的轴成30°至50°的角度观察时实现以│a^*│≤10和│b^*│≤10为特征的中性色，

其中所述红外阻挡比被定义为通过使用分光光度计根据KS L 2514标准从100减去在780nm至2500nm获得的红外透射率值所获得的值。

2.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其中具有较高折射率的所述第一介电层、所述第三介电层和所述第五介电层的折射率为2.0至2.5。

3.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其中具有较低折射率的所述第二介电层、所述第四介电层和所述第六介电层的折射率为1.3至1.6。

4.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其中具有较高折射率的所述第一介电层、所述第三介电层和所述第五介电层包含选自氮化铝、氮化硅、硅-锆氮化物、氧化钛、氧化锌、氧化锡、氧化锆、锌-锡氧化物和氧化铌中的一种或多种材料。

5.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其中具有较低折射率的所述第二介电层、所述第四介电层和所述第六介电层包含选自氧化硅、氧氮化硅、碳氧化硅和硅铝混合氧化物中的一种或多种材料。

6.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其表现出90％或更高的可见光透射率。

7.根据权利要求1所述的低反射涂膜玻璃，其表现出35％或更高的红外反射率。