[发明专利]吡锭盐化合物，其合成方法，包括所述吡锭盐化合物的金属或金属合金电镀浴，及所述金属或金属合金电镀浴的使用方法

权利要求书

1.一种化合物，其包括根据式(I)的构筑嵌段：

其中各A表示独立地选自下式(A1)及(A2)的单元：

及

其中

R^a1、R^a2、R^a3及R^a5各自独立地选自由以下组成的群：C1-C12-烷二基及-(CH₂)_c-[CH(R^a6)-CH₂-O]_d-(CH₂)_e-，其中c为范围介于0至3的整数；d为范围介于1至100的整数；e为范围介于1至3的整数；各R^a6彼此独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基及芳烷基；

各R^a4独立地选自由以下组成的群：烷二基、芳二基及-(CH₂)_f-[CH(R^a7)-CH₂-O]_g-(CH₂)_h-，其中f为范围介于0至3的整数；g为范围介于1至100的整数；h为范围介于1至3的整数；各R^a7彼此独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基及芳烷基；

各X¹及X²独立地选自由以下组成的群：

及

其中Z选自-CH₂-、O、S；z及z'为范围独立地介于1至6的整数，各R^a8及R^a9独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基、芳烷基及-CH₂-CH₂-(OCH₂CH₂)_y-OH，其中y为1至4的整数；

各Y¹、Y²及Y³独立地选自由O及N(R^a10)组成的群，其中各R^a10独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基及芳烷基；

a为范围介于1至40的整数；且

各D独立地选自由以下组成的群：

-CH₂-CH(OH)-CH₂-、-CH₂-CH(SH)-CH₂-、-(CH₂)_i-[CH(R^d1)-CH₂-O]_j-(CH₂)_k-及-CH₂-CH(OH)-(CH₂)_l-[CH(R^d2)-CH₂-O]_m-(CH₂)_n-CH(OH)-CH₂-

其中i为范围介于0至3的整数；j为范围介于1至100的整数；k为范围介于1至3的整数；各R^d1彼此独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基及芳烷基；l为范围介于1至3的整数；m为范围介于1至100的整数；n为范围介于1至3的整数；各R^d2彼此独立地选自由以下组成的群：氢、烷基、芳基及芳烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中各R^a1、R^a2、R^a3及R^a5独立地选自1,1-亚甲基(-CH₂-)、1,2-亚乙基(-CH₂-CH₂-)、1,3-亚丙基(-CH₂-CH₂-CH₂-)、(CH₂)₂-O-(CH₂)₂-及-(CH₂)₂-O-(CH₂)₂-O-(CH₂)₂-。