[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的对准方法及蒸镀掩膜固定装置

说明书

减少在基板上形成图案时所使用的掩膜中的、所形成的图案的位置偏移。将包含形成有规定图案的多个图案部的蒸镀掩膜(20)向框架(30)固定的蒸镀掩膜的对准方法包含以下步骤：第1对准步骤(S3)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第1基准标记(101)和形成在所述蒸镀掩膜的缘部的第1对准标记(201)的第1偏移量，对所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行对准；以及第2对准步骤(S5)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第2基准标记(102)和形成在所述图案部的外周部的第2对准标记(202)的第2偏移量，对通过所述第1对准步骤进行了对准的所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行再对准。

技术领域

本发明涉及蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的对准方法及蒸镀掩膜固定装置。

背景技术

在显示装置的制造工程中，应用使用蒸镀掩膜(也简称为掩膜)将特定材料成膜在基板上的技术。在使用掩膜的成膜中，使用形成有规定图案的掩膜将特定材料在基板上形成为规定图案。例如，在有机EL显示装置的制造工程中，作为在基板上形成红、绿、蓝的有机EL元件的方法之一而使用掩膜蒸镀法。有时将多个这种掩膜固定在框架上作为一个掩膜来使用。

在专利文献1中公开了下述内容：在借助固定用掩膜使两张金属掩膜接合时，通过使设置在金属掩膜上的对位贯通孔与设置在固定用掩膜上的对位标记对齐来进行对准。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-181208号公报

发明内容

在专利文献1中，一边监视设置在金属掩膜周边部的对位贯通孔与设置在固定用掩膜上的对位标记的偏移，一边进行金属掩膜与固定用掩膜的对准。

但是，在专利文献1公开的现有技术中，在未均匀形成掩膜图案或掩膜本身歪斜的情况下，即使掩膜周缘部的位置对齐，也会产生实际产品中的图案的位置偏移很大的课题。

本发明是鉴于上述课题提出的，其目的在于，在基板上形成图案时使用的掩膜中，减少所形成的图案的位置偏移。另外，提供一种减少在基板上形成的图案的位置偏移的对准方法及掩膜固定装置。

(1)为了解决上述课题，本发明的蒸镀掩膜包含形成有规定图案的多个图案部，其特征在于，在所述蒸镀掩膜的缘部设有第1对准标记，在所述图案部的外周部设有相对于所述第1对准标记位于内侧的第2对准标记。

(2)也可以是，在上述(1)所述的蒸镀掩膜中，所述蒸镀掩膜具有多个角部，所述第1对准标记设有多个，所述第2对准标记设有多个，多个所述第1对准标记分别位于所述多个角部的每一个，多个所述第2对准标记包含多个配置成一列的第2对准标记组。

(3)也可以是，在上述(1)或(2)所述的蒸镀掩膜中，所述第2对准标记设置在所述多个图案部中相邻的两个所述图案部之间。

(4)为了解决上述课题，本发明的蒸镀掩膜包括：包含多个图案部的第1蒸镀掩膜；包含多个图案部的第2蒸镀掩膜；以及固定有所述第1蒸镀掩膜和所述第2蒸镀掩膜的框架，所述蒸镀掩膜的特征在于，所述框架具有多个第1基准标记和多个第2基准标记，所述第1蒸镀掩膜具有位于所述第1蒸镀掩膜的缘部且与一个所述第1基准标记相对的第1对准标记，和位于所述图案部的外周部且与一个所述第2基准标记相对的第2对准标记，所述第2蒸镀掩膜具有位于所述第2蒸镀掩膜的缘部且与一个所述第1基准标记相对的第1对准标记，和位于所述图案部的外周部且与一个所述第2基准标记相对的第2对准标记，所述第2对准标记与所述第1对准标记相比位于所述第1蒸镀掩膜或所述第2蒸镀掩膜的内侧。