[发明专利]包括交联的碳纳米结构的薄膜衬底和相关方法

权利要求书

1.一种制造薄膜衬底的方法，所述方法包括：

将碳纳米结构暴露于交联物以使所述碳纳米结构交联；

回收所述交联的碳纳米结构；以及

将所述交联的碳纳米结构安置在支撑衬底上。

2.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将官能化的碳纳米结构暴露于所述交联物。

3.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将碳纳米管或石墨烯暴露于所述交联物。

4.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将利用羧酸基、氟基团、胺基、羟基或硫醇基官能化的碳纳米结构暴露于所述交联物。

5.如权利要求1所述的方法，其中将所述碳纳米结构暴露于交联物包括将所述碳纳米结构暴露于包括二价金属氧化物、二价金属醇盐、二价阳离子的盐或复合物，或其组合的多价阳离子源化合物。

6.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将所述碳纳米结构暴露于包括石墨烯、氮化碳、氮化硼，或其组合的π轨道源化合物。

7.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将所述碳纳米结构暴露于包括苯醌、寡聚噻吩、寡聚苯胺、聚苯硫醚、吡咯、硫、过氧化物、聚氨酯、金属氧化物、氧化硼、乙酰氧基硅烷、烷氧基硅烷，或其组合的交联剂。

8.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物包括将所述碳纳米结构暴露于包括钯、银、金、铜、铂、钌、铑、锡、铝、锂、钠、钾或其组合的纳米颗粒的金属纳米颗粒。

9.如权利要求1所述的方法，其中将碳纳米结构暴露于交联物以使所述碳纳米结构交联包括在环境条件下将所述碳纳米管暴露于所述交联物。

10.如权利要求1所述的方法，其中将所述碳纳米结构暴露于交联物以使所述碳纳米结构交联包括使所述碳纳米结构在溶液中交联。

11.如权利要求1所述的方法，其中回收所述交联的碳纳米结构包括从包括所述交联的碳纳米结构的悬浮液过滤出所述交联的碳纳米结构。

12.一种薄膜衬底，所述薄膜衬底包括支撑衬底上的交联的碳纳米结构，所述交联的碳纳米结构包括所述碳纳米结构之间的交联物。

13.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联物包括多价阳离子、π轨道源化合物、交联剂，或金属纳米颗粒。

14.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联物包括二价阳离子。

15.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联物包括石墨烯或氮化碳。

16.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联物包括苯醌。

17.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联物包括钯纳米颗粒、铜纳米颗粒、银纳米颗粒、金纳米颗粒，或其组合。

18.如权利要求12所述的薄膜衬底，其中所述交联的碳纳米结构包括交联的碳纳米管或交联的石墨烯。

19.一种对表面增强拉曼光谱(SERS)活性分析物执行SERS的方法，所述方法包括：

在薄膜衬底上提供SERS活性分析物，所述薄膜衬底包括支撑衬底上的交联的碳纳米结构并且所述交联的碳纳米结构包括所述碳纳米结构之间的交联物；

将所述薄膜衬底暴露于拉曼散射；以及

检测所述SERS活性分析物。