[发明专利]含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质

说明书

本发明涉及一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述通式(1)表示。

技术领域

本发明涉及含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。

本申请基于2017年3月2日在日本申请的特愿2017-039820号来主张优先权，将该内容援用到本文中。

背景技术

为了使磁记录再生装置的记录密度提高，进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。

以往，作为磁记录介质，有在磁记录介质用的基板上叠层记录层等后，在记录层上形成碳等保护层，进一步在保护层上形成了润滑层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅仅在记录层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。

因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。通过在保护层上设置润滑层，可以防止磁记录再生装置的磁头与保护层直接接触，并且可以使在磁记录介质上滑动的磁头的摩擦力显著降低，耐久性提高。

作为硬盘等磁记录介质所使用的润滑剂，例如，在专利文献1中，提出了含有在以-C_mF_2mO-单元(其中，m为1～18的整数)作为基本骨架的氟化聚醚的至少一个末端具有-(OCH₂CH₂)_nOH(其中，n为1～30的整数)所示的极性基的氟化聚醚的润滑剂。此外，在专利文献2～4中公开了具有全氟聚醚主链和极性基的类似的链状化合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平5-258287号公报

专利文献2：日本特开平9-282642号公报

专利文献3：日本特开2009-245491号公报

专利文献4：日本特开2012-7008号公报

发明内容

发明所要解决的课题

为了使磁记录再生装置的记录密度提高，使磁记录再生装置的磁头的上浮量更小，要求使润滑层的厚度更加薄。

然而，如果使润滑层的厚度薄，则有时在润滑层形成间隙从而润滑层带来的对磁记录介质的表面的被覆率降低，润滑层的下层的一部分露出。

如果在润滑层形成间隙，则使污染物质生成的环境物质从润滑层的间隙侵入到润滑层的下层，污染磁记录介质。

更详细而言，如果离子性杂质等使污染物质生成的环境物质从润滑层的间隙侵入到润滑层的下层，则侵入到润滑层的下层的环境物质使存在于润滑层的下层的离子成分凝集而使污染磁记录介质的污染物质生成。

此外，具备磁记录介质的硬盘驱动器的内部通常因为对磁记录介质进行驱动而使磁记录介质进行信息的记录再生，从而变为高温状态。上述的环境物质从润滑层的间隙的侵入、存在于润滑层的下层的离子成分的凝集、污染磁记录介质的污染物质的生成在高温条件下变得更显著。此外，在上述的专利文献1～4中，没有这样的课题的认识。

本发明是鉴于上述情况而提出的，其目的是提供可以形成即使使厚度薄，也可以以高被覆率被覆保护层的表面的润滑层，防止由侵入到润滑层的下层的环境物质造成的存在于润滑层的下层的离子成分的凝集，抑制污染磁记录介质的污染物质的生成，能够有效地防止磁记录介质的表面的污染，能够防止存在于磁记录介质上的污染物质对磁头的附着(转印)的含氟醚化合物，包含含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂，以及使用了该磁记录介质用润滑剂的磁记录介质。

用于解决课题的手段

本发明人为了解决上述课题反复进行了深入研究。