[发明专利]通过FZ法提拉单晶的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201880011591.9 申请日: 2018-02-13
公开(公告)号: CN110291231B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: T·施勒克 申请(专利权)人: 硅电子股份公司
主分类号: C30B13/20 分类号: C30B13/20;C30B13/28;C30B13/30;C30B13/32;C30B29/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 通过 fz 法提拉单晶 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种通过FZ法提拉单晶(150)的方法,其中借助于电磁熔化装置(300)熔化多晶(100),然后使其再结晶,所述方法包括:

在第一阶段(P1)中,借助于所述熔化装置(300)熔化所述多晶(100)的下端,所述多晶的下端包括锥形区段(110);

在第二阶段(P2)中,使单晶晶种(140)附着至所述多晶(100)的所述下端,并从所述晶种(140)的上端开始熔化所述单晶晶种(140);

在第三阶段(P3)中,在所述晶种(140)的下区段和所述多晶(100)之间形成细颈区段(130),所述细颈区段(130)的直径(dD)小于所述晶种(140)的直径(dI);并且

在第四阶段(P4)中,在所述细颈区段(130)和所述多晶(100)之间,形成所述单晶的锥形区段(135),

其中,在达到所述第四阶段(P4)之前,确定所述多晶(100)的转换位置(h'),在该转换位置所述多晶(100)相对于所述熔化装置(300)移动的速率在量上将要降低,并且通过以下过程确定所述转换位置(h'):

测量作为所述多晶的特征并且位于所述多晶(100)的锥形区段(110)的下端的位置(PS)相对于固定参考点(PB)的距离(d),并且由所述距离(d)和中间位置(h)确定所述转换位置(h'),或者

确定所述多晶的中间位置(h),在该中间位置,作为所述多晶的特征且位于所述多晶(100)的锥形区段(110)的下端的位置(PS)在所述多晶(100)移动期间达到或超过相对于固定参考点(PB)的预定距离(d),由所述中间位置(h)确定所述转换位置(h');以及

在所述第四阶段(P4)中,当达到所述转换位置(h')时,所述多晶(100)相对于所述熔化装置(300)下降的速率在量上降低。

2.根据权利要求1所述的方法,其包括基于所述多晶(100)的特征直径或预定直径而确定作为所述多晶(100)的特征的位置(PS)。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中在所述多晶(100)的所述锥形区段(110)的下端,作为所述多晶(100)的特征的位置(PS)包括所述多晶(100)的锥形区段的倾斜角变化超过预定值的位置。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其包括使用照相机(351)捕捉作为所述多晶(100)的特征的位置(PS),所述照相机设置在所述熔化装置(300)上方。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其包括在所述第一阶段(P1)中和/或在所述第二阶段(P2)中确定所述转换位置(h')。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述多晶(100)相对于所述熔化装置(300)移动的速率在所述降低前为0.5 mm/min或更高,并且在所述降低后为小于0.5 mm/min。

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