[发明专利]X射线用金属网格、X射线摄像装置及X射线用金属网格的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880011606.1 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN110291426B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 小谷政弘;川上博己 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00;A61B6/00;A61B6/06;G01N23/20008;G21K1/06
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;尹明花
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 射线 金属 网格 摄像 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种X射线用金属网格,其特征在于,

包括:

具有弯曲的主面的柔性基板;

在所述柔性基板的所述主面上形成的阀金属膜;和

在所述阀金属膜上形成的阳极氧化覆膜,

通过蚀刻在所述阳极氧化覆膜上形成有包含周期性的多个凹部的栅格结构,

所述阳极氧化覆膜是多孔性的,包含多个孔,

所述多个孔向与所述主面垂直的方向延伸,且沿与所述主面平行的面规律地排列,

所述多个凹部向与所述主面垂直的方向延伸,且包围圆形状的多个凸部,

所述凹部的侧面与所述主面垂直。

2.如权利要求1所述的X射线用金属网格,其特征在于,

还包括:框架部以及支承基板中的至少一方,

所述框架部支承所述柔性基板的周缘部,

所述支承基板粘贴于所述柔性基板并支承所述柔性基板。

3.如权利要求1或2所述的X射线用金属网格,其特征在于,

还包括金属部,

该金属部含有与所述阳极氧化覆膜相比X射线透过率低的金属,且填埋所述栅格结构的所述凹部。

4.如权利要求1或2所述的X射线用金属网格,其特征在于,

还包括:在所述阳极氧化覆膜的除所述凹部以外的区域上设置的保护膜。

5.如权利要求4所述的X射线用金属网格,其特征在于,

所述保护膜含有树脂。

6.一种X射线摄像装置,其特征在于,

包括:

放射X射线的X射线源;

塔尔博特干涉仪或塔尔博特-劳厄干涉仪,其被从所述X射线源放射的X射线照射;和

X射线摄像部,其拍摄从所述塔尔博特干涉仪或所述塔尔博特-劳厄干涉仪射出的X射线图像,

所述塔尔博特干涉仪或所述塔尔博特-劳厄干涉仪具有权利要求1~5中的任一项所述的X射线用金属网格。

7.一种X射线用金属网格的制造方法,其特征在于,

包括:

在具有主面的柔性基板的所述主面上形成阀金属膜的工序;

在所述主面弯曲的状态下进行所述阀金属膜的阳极氧化处理而形成阳极氧化覆膜的工序;和

通过在所述阳极氧化覆膜的表面上形成具有周期性的开口的蚀刻掩模,并经所述开口对所述阳极氧化覆膜进行蚀刻,从而在所述阳极氧化覆膜上形成包含周期性的多个凹部的栅格结构的工序,

所述阳极氧化覆膜是多孔性的,包含多个孔,

所述多个孔向与所述主面垂直的方向延伸,且沿与所述主面平行的面规律地排列,

所述多个凹部向与所述主面垂直的方向延伸,且包围圆形状的多个凸部,

所述凹部的侧面与所述主面垂直。

8.如权利要求7所述的X射线用金属网格的制造方法,其特征在于,

在形成所述栅格结构的工序之后,还包括形成金属部的工序,

该金属部含有与所述阳极氧化覆膜相比X射线透过率低的金属,且填埋所述栅格结构的所述凹部。

9.如权利要求8所述的X射线用金属网格的制造方法,其特征在于,

在形成所述金属部的工序中,在残留有所述蚀刻掩模的状态下形成所述金属部。

10.如权利要求8或9所述的X射线用金属网格的制造方法,其特征在于,

在形成所述金属部的工序中,利用电镀、CVD、ALD中的任一方法形成所述金属部。

11.如权利要求8或9所述的X射线用金属网格的制造方法,其特征在于,

还包括:安装框架部以及支承基板中的至少一方的工序,

所述框架部支承所述柔性基板的周缘部,

所述支承基板粘贴于所述柔性基板并支承所述柔性基板。

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